[发明专利]电连接器和电子设备在审

专利信息
申请号: 202010453923.8 申请日: 2020-05-26
公开(公告)号: CN113725647A 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 徐宏涛;周建波;张林 申请(专利权)人: 北京小米移动软件有限公司
主分类号: H01R13/03 分类号: H01R13/03;H01R43/16
代理公司: 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 代理人: 王婵
地址: 100085 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 连接器 电子设备
【权利要求书】:

1.一种电连接器,其特征在于,包括插接引脚,所述插接引脚包括:

基材,所述基材包括导电区;

复合防腐膜层,所述复合防腐膜层形成于所述基材的表面,所述复合防腐膜层包括金属钛层,所述金属钛层与所述导电区层叠设置。

2.根据权利要求1所述的电连接器,其特征在于,所述复合防腐膜层包括:

打底层,所述打底层形成于所述基材的表面,所述金属钛层形成于所述打底层上与所述导电区层叠设置的表面。

3.根据权利要求2所述的电连接器,其特征在于,所述打底层包括金属镍层或者金属镍化合物层。

4.根据权利要求2所述的电连接器,其特征在于,所述复合防腐膜层还包括:

第一金属层,所述第一金属层形成于所述金属钛层的表面。

5.根据权利要求4所述的电连接器,其特征在于,所述第一金属层包括:

金属金、金属金合金、金属铑、金属铑合金、金属银、金属银合金、金属钯、金属钯合金、金属钌、金属钌合金中的至少一种材料。

6.根据权利要求2所述的电连接器,其特征在于,所述基材还包括焊接区,所述打底层还形成于所述焊接区的表面,所述复合防腐膜层还包括:

第二金属层,所述第二金属层形成于所述打底层上对应于所述焊接区设置的表面。

7.根据权利要求1所述的电连接器,其特征在于,所述电连接器包括USB连接器。

8.一种插接引脚的加工工艺,其特征在于,包括:

成型基材,所述基材包括导电区;

在所述基材的表面形成复合防腐膜层,所述复合防腐膜层包括金属钛层,所述金属钛层与所述导电区层叠设置。

9.根据权利要求8所述的加工工艺,其特征在于,所述在所述基材的表面形成复合防腐膜层,包括:

在所述基材的表面形成打底层;

在所述打底层上与所述导电区层叠设置的表面形成所述金属钛层。

10.根据权利要求9所述的加工工艺,其特征在于,还包括:

在所述金属钛层的表面形成第一金属层。

11.根据权利要求9所述的加工工艺,其特征在于,所述基材包括焊接区,所述加工工艺还包括:

在所述打底层上与所述导电区层叠设置的表面形成第二金属层。

12.一种电子设备,其特征在于,包括如权利要求1-7中任一项所述的电连接器。

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