[发明专利]OLED显示基板及其制备方法、OLED显示装置有效
申请号: | 202010413640.0 | 申请日: | 2020-05-15 |
公开(公告)号: | CN111554829B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 鲍建东;高洪成;黄灿;何源 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H10K50/86 | 分类号: | H10K50/86;H10K59/38;H10K59/65;H10K71/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 顾丽波;姜春咸 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | oled 显示 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种OLED显示基板,包括:
基底;
OLED器件层,其设置在所述基底上并且包括多个OLED发光器件;
封装层,其设置在所述多个OLED发光器件远离所述基底的一侧;
布置在所述封装层远离所述基底一侧的黑矩阵层,所述黑矩阵层包括多个开口;以及
布置在所述黑矩阵层远离所述基底一侧的彩膜层,所述彩膜层包括多个彩膜,所述多个彩膜一一对应地设置在所述多个开口远离所述基底的一侧;其中,所述彩膜层划分为工作区和屏下摄像头区,所述多个彩膜包括多个工作彩膜和至少一个公共彩膜,所述多个工作彩膜与所述多个OLED发光器件对置,所述至少一个公共彩膜设置在所述屏下摄像头区,以及所述公共彩膜在所述基底上的正投影的面积为所述多个工作彩膜中的任意一个在所述基底上的正投影的面积的50倍以上,以及
所述至少一个公共彩膜中每个公共彩膜的光透过率小于所述多个工作彩膜中的任意一个的光透过率。
2.根据权利要求1所述的OLED显示基板,其中,
所述公共彩膜在所述基底上的正投影的面积为所述多个工作彩膜中的任意一个在所述基底上的正投影的面积的100倍以上。
3.根据权利要求1所述的OLED显示基板,其中,
所述公共彩膜在所述基底上的正投影的形状为圆形。
4.根据权利要求3所述的OLED显示基板,其中,
所述公共彩膜在所述基底上的正投影的直径不超过10mm。
5.根据权利要求1至4中任意一项所述的OLED显示基板,其中,所述公共彩膜的材料为亚克力系材料。
6.根据权利要求1至4中任意一项所述的OLED显示基板,其中,所述多个工作彩膜包括多种颜色的彩膜,以及所述多个工作彩膜中的每个工作彩膜均与所述OLED器件层中的一个OLED发光器件对置,以对该OLED发光器件发出的光进行滤光以用于进行显示。
7.根据权利要求6所述的OLED显示基板,其中,所述至少一个公共彩膜位于所述多个工作彩膜之间。
8.根据权利要求6所述的OLED显示基板,其中,所述至少一个公共彩膜与所述多个工作彩膜的一个工作彩膜具有相同的颜色,以及该公共彩膜的厚度大于该工作彩膜的厚度。
9.根据权利要求6所述的OLED显示基板,其中,所述至少一个公共彩膜与所述多个工作彩膜的一个工作彩膜具有相同的厚度,以及该公共彩膜的光透过率小于该工作彩膜的光透过率。
10.根据权利要求1至4中任意一项所述的OLED显示基板,其中,所述基底的材料为柔性材料,以及所述封装层的材料为透明材料。
11.一种制备OLED显示基板的方法,包括:
在基底上形成包括多个OLED发光器件的OLED器件层;
在所述多个OLED发光器件远离所述基底的一侧形成封装层;
在所述封装层远离所述基底一侧形成包括多个开口的黑矩阵层;
在所述黑矩阵层远离所述基底一侧形成彩膜层,使得所述彩膜层包括多个彩膜,所述多个彩膜一一对应地设置在所述多个开口远离所述基底的一侧,以及所述彩膜层划分为工作区和屏下摄像头区,所述多个彩膜包括多个工作彩膜和至少一个公共彩膜,所述多个工作彩膜与所述多个OLED发光器件对置,所述至少一个公共彩膜设置在所述屏下摄像头区,以及所述公共彩膜在所述基底上的正投影的面积为所述多个工作彩膜中的任意一个在所述基底上的正投影的面积的50倍以上,以及
其中,所述至少一个公共彩膜中每个公共彩膜的光透过率小于所述多个工作彩膜中的任意一个的光透过率。
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