[发明专利]显示基板及其制造方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202010410912.1 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN111474799B 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 包亚洲;杨刚;徐田雨;何海龙;王世鑫;商建通 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/167 分类号: G02F1/167;G02F1/1675;G02F1/1676;G02F1/1677;G02F1/1335;G02F1/1347;G02B30/31
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;陈丽宁
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制造 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板,其特征在于,包括:

衬底基板;

彩膜层,所述彩膜层设置于所述衬底基板上,且所述彩膜层包括阵列分布的多个彩色滤光单元,相邻彩色滤光单元之间限定出矩阵开口区,所述矩阵开口区包括在第一方向上交替排列的多个第一开口区和多个第二开口区,每一所述第一开口区在所述衬底基板上的正投影均为沿第二方向延伸的条形区域,所述第一方向和所述第二方向垂直,所述第一开口区内填充有黑色电泳粒子,所述第二开口区内填充有遮光物;

光栅层,所述光栅层包括沿所述第一方向间隔排列的多个电泳腔体,所述电泳腔体包括用于形成光栅结构的光栅腔体、和连通所述光栅腔体和所述第一开口区的连通腔体;其中,所述光栅层与所述彩膜层相接触;

及,用于驱动所述黑色电泳粒子运动的透明驱动电极;

其中所述显示基板具有第一状态和第二状态;

在所述第一状态,所述黑色电泳粒子运动并排布在对应的所述第一开口区内,以形成黑矩阵;

在所述第二状态,所述黑色电泳粒子运动并排布在所述光栅腔体内,以形成光栅。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,

所述第一开口区在所述第一方向上的内径宽度小于所述光栅腔体在所述第一方向上的内径宽度。

3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,

所述连通腔体在所述第一方向上的内径宽度,从靠近所述第一开口区的一端向靠近所述光栅腔体的一端逐渐增大。

4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,

所述光栅层设置于所述彩膜层的远离所述衬底基板的一侧;

或者,所述光栅层设置于所述彩膜层与所述衬底基板之间。

5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,

所述透明驱动电极包括:

位于所述彩膜层的远离所述光栅层的一侧的第一透明电极;

及,位于所述光栅层的远离所述彩膜层的一侧的第二透明电极;

其中,所述第一透明电极或所述第二透明电极复用为所述显示基板的公共电极。

6.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,

所述遮光物为封装于所述第二开口区内的黑色电泳粒子;

或者,所述遮光物为遮光材料制成的树脂遮光层。

7.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,

所述光栅层还包括透明材料层,所述电泳腔体形成于所述透明材料层内,且所述电泳腔体内填充有电泳液,所述电泳液与所述透明材料层的折射率小于预定值。

8.一种显示装置,其特征在于,包括:对盒设置的彩膜基板和阵列基板,所述彩膜基板采用如权利要求1至7任一项所述的显示基板;及,位于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶层或液晶聚合物层。

9.一种显示基板的制造方法,其特征在于,用于制造如权利要求1至7任一项所述的显示基板,所述方法包括:

在衬底基板上形成彩膜层,所述彩膜层包括阵列分布的多个彩色滤光单元,相邻彩色滤光单元之间限定出矩阵开口区,所述矩阵开口区包括在第一方向上交替排列的多个第一开口区和多个第二开口区,每一所述第一开口区在所述衬底基板上的正投影均为沿第二方向延伸的条形区域,所述第一方向和所述第二方向垂直,在所述第一开口区内填充黑色电泳粒子,所述第二开口区内填充遮光物;

在衬底基板上形成光栅层,所述光栅层包括沿所述第一方向间隔排列的多个电泳腔体,所述电泳腔体内填充有黑色电泳粒子,所述电泳腔体包括用于形成光栅结构的光栅腔体、和连通所述光栅腔体和所述第一开口区的连通腔体;

在衬底基板上形成用于驱动所述黑色电泳粒子运动的透明驱动电极。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,

所述光栅层设置于所述彩膜层的远离所述衬底基板的一侧时,所述方法具体包括:

在所述衬底基板上形成第一透明电极;

在所述第一透明电极上形成彩膜层;

在所述彩膜层上形成所述矩阵开口区;

在所述矩阵开口区内填充黑色电泳粒子;

在所述彩膜层的远离所述衬底基板的一侧形成透明材料层,并在所述透明材料层上刻蚀出所述电泳腔体;

在所述透明材料层的远离所述衬底基板的一侧形成第二透明电极;

或者,

所述光栅层设置于所述彩膜层与所述衬底基板之间时,所述方法具体包括:

在所述衬底基板上形成第一透明电极;

在所述彩膜层的远离所述衬底基板的一侧形成透明材料层,并在所述透明材料层上刻蚀出所述电泳腔体;

在所述透明材料层的远离所述衬底基板的一侧形成彩膜层;

在所述彩膜层上形成所述矩阵开口区;

在所述矩阵开口区内填充黑色电泳粒子;

在所述彩膜层的远离所述衬底基板的一侧形成第二透明电极。

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