[发明专利]坩埚装置、蒸镀装置

说明书

本发明提供一种坩埚装置、蒸镀装置，所述坩埚装置用以蒸镀金属铝材料，其包括：外层坩埚，具有一外层腔体，其腔体表面覆有热量反射涂层；内层坩埚，具有主体部，所述主体部嵌套于所述外层坩埚的外层腔体内。本发明一方面，通过在外层坩埚内壁设置热量反射涂层，可以使得坩埚装置内的蒸镀材料维持稳定的蒸发速率，并有效的提高蒸镀速率；另一方面，在内层坩埚的上方设置凹槽，且每个凹槽具有溢流孔，可以用于疏导溢出液体至外层坩锅，从而降低液体从坩埚装置的上表面冒出来损坏坩埚装置的风险。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种坩埚装置、蒸镀装置。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二级管，简称OLED)显示屏由于具有薄、轻、宽视角、主动发光、发光颜色连续可调、成本低、响应速度快、能耗小、驱动电压低、工作温度范围宽、生产工艺简单、发光效率高及可柔性显示等优点，已被列为极具发展前景的下一代显示技术。

目前，OLED器件制作的主要方式是加热蒸发镀膜，主要是在一定的真空条件下，使用加热容器加热蒸镀材料，使蒸镀材料熔化(或升华)成原子、分子或原子团组成的蒸气，然后沉积在有TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)结构或者阳极结构的基板上，从而形成OLED器件的功能层。

OLED发光器件底部的结构，一般选择蒸镀金属铝材料制作金属阴极。而现有蒸镀机蒸镀铝膜的坩埚，坩埚内层一般采用陶瓷材质(氮化硅)，外层套一层隔热装置(隔热材)。铝源坩埚升降温1次，再次升温时坩埚有破裂的风险。铝源坩埚破裂原因是：旧坩埚残留铝Al再次加热使用时，因Al与坩埚热膨胀形变量不同，其中，Al的热膨胀系数为23μm/m.℃，氮化硅的热膨胀系数为2.8μm/m.℃，可见，Al的热膨胀系数是氮化硅约8.2倍，容易导致坩埚被撑破或坩埚破裂。当坩埚破裂时，坩埚内铝液溢出至加热源(Source)，从而导致加热Source有损坏的风险。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种坩埚装置、蒸镀装置，以解决坩埚在蒸镀金属铝的过程中容易受热膨胀而产生形变，从而导致坩埚破裂的技术问题。

为实现上述目的，本发明提供一种坩埚装置，用以蒸镀金属铝材料，所述坩埚装置包括：

外层坩埚，具有一外层腔体，其腔体表面覆有热量反射涂层；内层坩埚，具有主体部，所述主体部嵌套于所述外层坩埚的外层腔体内。

进一步地，所述外层坩埚和所述内层坩埚所用材料均为隔热耐高温陶瓷材料。

进一步地，所述隔热耐高温陶瓷材料为氧化铝、氮化硅、氮化硼中的至少一种。

进一步地，所述外层坩埚所用材料为氮化硼，所述内层坩埚所用材料为氮化硅；或者所述外层坩埚所用材料为氮化硅，所述内层坩埚所用材料为氮化硼。

进一步地，所述内层坩埚还包括上体部，所述上体部设有中间区域和围绕所述中间区域的边缘区域，所述主体部连接于所述上体部的中间区域，所述上体部的边缘区域搭接于所述外层坩埚上；所述主体部具有内层腔体，所述上体部上具有若干凹槽，所述凹槽内具有溢流孔，所述溢流孔连通于所述内层腔体。

进一步地，所述凹槽的数量为2-5个；所述溢流孔的数量为3-6个；所述溢流孔的孔径为1-3mm。

进一步地，所述热量反射涂层的厚度为所述热量反射涂层所用材料为二氧化钛。

进一步地，所述的坩埚装置还包括：

支架，包括座体和垂直连接于所述座体边缘的架体；支撑基座，设于所述座体上，所述外层坩埚固定于所述支撑基座上；陶瓷支撑座，设于所述座体上且围绕所述支撑基座；感应线圈，设于所述陶瓷支撑座朝向外层坩埚的一面。

进一步地，所述的坩埚装置还包括：