[发明专利]坩埚装置、蒸镀装置

权利要求书

1.一种坩埚装置，其特征在于，用以蒸镀金属铝材料，所述坩埚装置包括：

外层坩埚，具有一外层腔体，其腔体表面覆有热量反射涂层；

内层坩埚，具有主体部，所述主体部嵌套于所述外层坩埚的外层腔体内；

其中，所述内层坩埚还包括上体部，所述上体部设有中间区域和围绕所述中间区域的边缘区域，所述主体部连接于所述上体部的中间区域，所述上体部的边缘区域搭接于所述外层坩埚上；

所述主体部具有内层腔体，所述上体部上具有若干凹槽，所述凹槽内具有溢流孔，所述溢流孔连通于所述内层腔体。

2.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，

所述外层坩埚和所述内层坩埚所用材料均为隔热耐高温陶瓷材料。

3.根据权利要求2所述的坩埚装置，其特征在于，所述隔热耐高温陶瓷材料为氧化铝、氮化硅、氮化硼中的至少一种。

4.根据权利要求3所述的坩埚装置，其特征在于，所述外层坩埚所用材料为氮化硼，所述内层坩埚所用材料为氮化硅；或者所述外层坩埚所用材料为氮化硅，所述内层坩埚所用材料为氮化硼。

5.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，

所述凹槽的数量为2-5个；

所述溢流孔的数量为3-6个；

所述溢流孔的孔径为1-3mm。

6.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，

所述热量反射涂层所用材料为二氧化钛，所述热量反射涂层的厚度为

7.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，还包括：支架，包括座体和垂直连接于所述座体边缘的架体；

支撑基座，设于所述座体上，所述外层坩埚固定于所述支撑基座上；

陶瓷支撑座，设于所述座体上且围绕所述支撑基座；

感应线圈，设于所述陶瓷支撑座朝向外层坩埚的一面。

8.根据权利要求7所述的坩埚装置，其特征在于，还包括：

防镀遮板，设于所述架体的顶部，且从所述架体的顶部表面连接至所述内层坩埚的外壁。

9.一种蒸镀装置，其特征在于，包括蒸镀腔室以及如权利要求1-8任一项所述的坩埚装置；其中，所述坩埚装置设置于蒸镀腔室内。