[发明专利]对准机日志分析系统及方法

权利要求书

1.一种对准机日志分析系统，其特征在于，包含与所述对准机通信连接的计算机，所述计算机具有存储器和处理器，其中，

所述存储器包含第一存储单元和第二存储单元，其中，所述第一存储单元储存与至少一台对准机的工作流程相关的生产日志，所述第二存储单元储存与经所述至少一台对准机加工的晶圆的产品参数相关的产品日志；

所述处理器配置为将所述第一存储单元内的所述生产日志与所述第二存储单元内的所述产品日志相关联，并通过所述生产日志的显示界面访问与所述生产日志对应的产品日志。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述生产日志包含错误代码、光照对准数据、晶圆对准数据、环境数据、产出量。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述产品日志包含晶圆的曝光分布图、曝光点的曝光数据和曝光点的自动调焦设定。

4.一种对准机日志分析方法，其特征在于，包含：

采集至少一台对准机的生产日志和产品日志；

检索所述生产日志；以及

通过所述生产日志的显示界面访问与所述生产日志对应的所述产品日志。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，基于开始日期和结束日期并结合查询项目来检索所述生产日志。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，基于所述对准机的机台型号并结合查询项目来检索所述生产日志。

7.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，基于晶圆的产品批号检索所述产品日志。

8.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包含显示单个晶圆的曝光分布的可视化界面，其中所述可视化界面在每一个曝光点处显示所述曝光点的曝光数据，并且所述曝光点与所述曝光点的曝光数据细项和自动调焦设定相关联。

9.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包含显示整批晶圆的所述产品参数的分布趋势和多批晶圆的所述产品参数的长期分布趋势。

10.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包含对比晶圆的长期分布趋势与不同于所述晶圆的另一材料的对应参数。