[发明专利]烷氧基硅化合物的精制方法在审
| 申请号: | 202010228272.2 | 申请日: | 2020-03-27 |
| 公开(公告)号: | CN111747980A | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
| 发明(设计)人: | 窪寺俊;谷口博昭;孙军 | 申请(专利权)人: | 日产化学株式会社 |
| 主分类号: | C07F7/18 | 分类号: | C07F7/18;C07F7/20 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 曾祯;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 烷氧基硅 化合物 精制 方法 | ||
1.一种烷氧基硅化合物的精制方法,其特征在于,用具有含有硫原子和氮原子的官能团的螯合树脂,对包含金属杂质的被精制烷氧基硅化合物进行处理。
2.根据权利要求1所述的烷氧基硅化合物的精制方法,所述官能团由下述式(1-1)~(1-3)中的任一者表示,
在式(1-1)~(1-3)中,*表示与作为载体的树脂的结合端。
3.根据权利要求1或2所述的烷氧基硅化合物的精制方法,其特征在于,用包含所述螯合树脂的混合物或所述螯合树脂与其它螯合树脂的混合物,对包含金属杂质的被精制烷氧基硅化合物进行处理。
4.根据权利要求1或2所述的烷氧基硅化合物的精制方法,其特征在于,使用选自所述螯合树脂、包含所述螯合树脂的混合物、其它螯合树脂、和所述螯合树脂与其它螯合树脂的混合物中的2种以上物质,一个一个地依次对包含金属杂质的被精制烷氧基硅化合物进行处理。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的烷氧基硅化合物的精制方法,所述烷氧基硅化合物的分子量为5000以下。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的烷氧基硅化合物的精制方法,所述烷氧基硅化合物是使具有羟基、氨基或芳基的化合物在过渡金属催化剂存在下与烷氧基硅化合物反应而获得的化合物。
7.根据权利要求6所述的烷氧基硅化合物的精制方法,所述烷氧基硅化合物是使具有芳基的化合物在过渡金属催化剂存在下与具有Si-H键的烷氧基硅化合物反应而获得的化合物。
8.根据权利要求7所述的烷氧基硅化合物的精制方法,所述具有Si-H键的烷氧基硅化合物是三烷氧基硅烷化合物。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的烷氧基硅化合物的精制方法,所述烷氧基硅化合物是通过具有芳基的异氰脲酸衍生物与具有Si-H键的烷氧基硅化合物的反应而获得的化合物。
10.一种烷氧基硅化合物,是将包含金属杂质的被精制烷氧基硅化合物用具有含有硫原子和氮原子的官能团的螯合树脂进行处理而得的、残存金属杂质量以100重量%计为1ppm以下的烷氧基硅化合物。
11.根据权利要求10所述的烷氧基硅化合物,所述残存金属为Pt、Ir、Re、Ni、Mo、Fe、Ti、Ca和Sr中的任一者。
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