[发明专利]晶圆边缘曝光方法、晶圆边缘曝光装置及掩膜板

权利要求书

1.一种晶圆边缘曝光方法，其特征在于，包括：

提供晶圆，所述晶圆边缘具有多个待曝光区域和与所述多个待曝光区域临接的非曝光区域；

提供晶圆边缘曝光装置，所述晶圆边缘曝光装置依次对准各所述待曝光区域、且与所述非曝光区域相互隔离，对各所述待曝光区域进行曝光处理；

在各所述待曝光区域设定对准标记；

对所述晶圆作缺口对准，确定所述晶圆的初始位置；

根据各所述待曝光区域的位置信息，分别计算各所述对准标记与所述晶圆初始位置之间的圆心角；

根据所述圆心角依次旋转所述晶圆，使得所述晶圆边缘曝光装置依次对准所述对准标记；

当旋转角度等于所述圆心角时，对所述待曝光区域进行曝光。

2.根据权利要求1所述的晶圆边缘曝光方法，其特征在于，还包括：所述晶圆边缘曝光装置根据各所述待曝光区域的位置信息，控制所述晶圆边缘曝光装置改变曝光面积和曝光时间。

3.根据权利要求2所述的晶圆边缘曝光方法，其特征在于，所述晶圆边缘曝光装置包括掩膜板，所述掩膜板包括用于曝光的透光孔和用于遮挡所述透光孔的遮光板；

所述控制所述晶圆边缘曝光装置改变曝光面积，包括：

改变所述遮光板的位置，调节所述遮光板遮挡所述透光孔的面积。