[发明专利]一种设备基准快速调平方法

权利要求书

1.一种设备基准快速调平方法,其特征在于，包括：

设备标定步骤，在设备上设置多个标定点，在设备上选取多个特征点，通过激光跟踪仪获取所述多个特征点的坐标，依据所述特征点的坐标拟合出设备基准并依此建立设备坐标系，获取所述标定点在所述设备坐标系下的理论坐标；

调整偏差获取步骤，采用激光跟踪仪测量所述标定点在水平坐标系下的实测坐标，将所述水平坐标系和设备坐标系关联后，根据每个标定点的实测坐标和理论坐标获取其对应的调整偏差；

调平步骤，根据所述调整偏差调整设备的对应的调节机构，直到所述调整偏差缩小至预设限差之内；

其中，所述在设备上设置多个标定点包括：

在设备上选取多个标定点，使得所述标定点至少与调节机构一一对应，在所述标定点处固定靶标座，在所述靶标座上放置反射球；

其中，所述将所述水平坐标系和设备坐标系关联后，根据每个标定点的实测坐标和理论坐标获取其对应的调整偏差包括：

(1)将每个标定点在水平坐标系测得实测坐标和设备坐标系下测得的理论坐标值带入下式中,通过最小二乘法求得坐标平移参数(ΔX,ΔY,ΔZ)、尺度变化参数λ以及坐标转换旋转参数ε_Z；

其中，(X′,Y′,Z′)表示任意一个标定点的理论坐标，(X,Y,Z)表示任意一个标定点的实测坐标，λ为尺度变化参数；

其中，ε_Z为坐标变换旋转参数；

(2)将每个标定点的实测坐标和理论坐标代入下式中，求得每个标定点对应的调整偏差；

其中，V_z表示某个标定点的调整偏差。

2.如权利要求1所述的设备基准快速调平方法，其特征在于，所述在设备上选取多个特征点，通过激光跟踪仪获取所述多个特征点的坐标，依据所述特征点的坐标拟合出设备基准并依此建立设备坐标系包括：

在设备上选取多个特征点，依次将反射球放置在每个特征点处，通过激光跟踪仪获取每个特征点处的反射球的坐标，依据所述特征点处的反射球的坐标构造出设备的基准，依据所述基准建立三维直角坐标系作为设备坐标系。

3.如权利要求1所述的设备基准快速调平方法，其特征在于，所述采用激光跟踪仪测量所述标定点在水平坐标系下的实测坐标包括：

将激光跟踪仪调至水平状态，然后测量所述标定点在激光跟踪仪水平坐标系下的坐标作为实测坐标。

4.如权利要求3所述的设备基准快速调平方法，其特征在于，所述在设备上选取的多个标定点，使得所述标定点至少与调节机构一一对应包括：至少在设备上每个调节机构竖直对应的方向上设置一个标定点，使得可以根据该标定点的调整偏差来调整该调节机构。

5.如权利要求3所述的设备基准快速调平方法，其特征在于，所述标定点的个数大于或等于调节机构的数量。

6.如权利要求1所述的设备基准快速调平方法，其特征在于，所述根据所述调整偏差调整设备的对应的调节机构，直到所述调整偏差缩小至预设限差之内，包括：依次根据每个标定点的调整偏差对于该标定点对应的调节机构进行调节，使得该标定点的调整偏差缩小至预设的限差之内，直到所有的调节机构都调节完成。