[发明专利]一种双面发电的PERL太阳能电池及其制备方法在审
| 申请号: | 202010180115.9 | 申请日: | 2020-03-16 |
| 公开(公告)号: | CN111370535A | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
| 发明(设计)人: | 刘媛;丁丽萍;丁中武;顾鹏程 | 申请(专利权)人: | 南通大学 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0224;H01L31/0352;H01L31/068 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 226019*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 双面 发电 perl 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种双面发电的PERL太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1.硅片预处理:将P型硅片置于HF/HNO3混合溶液中清洗,去除所述P型硅片表面的损伤层和切割线痕,然后取出进行制绒处理;
S2.硅片背面处理:将步骤S1预处理得到的P型硅片的背面置于KOH溶液中进行抛光处理,然后用PECVD方法在P型硅片的背面淀积一层Al2O3层,然后在所述Al2O3层上淀积一层钝化膜SiNx层,所述的Al2O3层厚度为10-20nm,所述的钝化膜SiNx层厚度为80-100nm;
S3.硅片正面处理:采用POCl3作为磷源,在步骤S2处理得到的P型硅片的正面进行磷扩散,形成N+掺杂层,并采用纳秒激光处理所述N+掺杂层形成选择性发射极,然后再使用PECVD方法沉积一层SiNx层,所述的SiNx层厚度为100-120nm;
S4.硅片背面重掺杂层处理:在步骤S3处理得到的P型硅片的背面采用丝网局域印刷硼浆料后烘干形成硼浆栅线,然后采用纳秒激光处理所述硼浆栅线形成局域开口,所述局域开口处具有与P型硅片直接接触的重掺杂层;
S5.栅线印刷处理:在所述局域开口处采用丝网印刷电极浆料形成背面栅线,烘干后在硅片正面进行丝网印刷银浆料形成正面银栅线,烧结后即得到所述的双面发电的PERL太阳能电池。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤S4中,所述硼浆料的制备方法为:将硅硼合金和有机载体混匀,研磨、分散,得到硼浆料,所述硼浆料的细度≤10μm。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤S4中,所述局域开口的宽度为40-60μm,长度为100-300μm,相邻两个所述的局域开口的间距为400-600μm。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述烘干的温度为200-300℃,烘干时间为4-6min。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述的纳秒激光频率为10-100MHz,所述的纳秒激光脉冲宽度为100-500ns。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤S4中,所述重掺杂层的厚度为2-3μm,所述的重掺杂层的掺杂浓度为8×1019-5×1020cm-3。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤S5中,所述电极浆料为铝浆或银铝浆。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤S5中,所述背面栅线的线宽为150-210μm。
9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤S5中,所述烧结峰值温度为875~915℃。
10.根据权利要求1~9任一项所述制备方法制备得到的双面发电的PERL太阳能电池,其特征在于,所述太阳能电池包括P型硅片;依次设置在P型硅片正面的N+掺杂层、SiNx层和正面银栅线;以及依次镀膜在P型硅片背面的Al2O3层、钝化膜SiNx层和背面栅线;所述钝化膜SiNx层上具有多个局域开口,P型硅片中沿所述局域开口向里层掺杂形成的重掺杂层,所述背面栅线设置在重掺杂层上。
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