[发明专利]制作光学薄膜的方法、膜系结构、镀膜方法、激光反射镜

权利要求书

1.一种膜系结构，其特征在于，属于非调谐的多层膜系，总厚度为8微米的膜系结构具有38层且由下述形式表示：

G/(19.8H)(59.04L)(60.7H40.04L)²(202.8H)(173.4L)(173.6H199.2L)⁴(173.6H199.2L)⁷(173.6H 199.2L)³(120.4H)(140.3L)/AIR；

其中，G代表基板，Air代表空气，H表示作为高折射率材料的二氧化铪，L表示作为低折射率材料的二氧化硅；

19.8H表示二氧化铪的厚度为19.8纳米，59.04L表示二氧化硅的厚度为59.04纳米，依次类推；

第一膜堆为：

(19.8H)(59.04L)(60.7H40.04L)²(202.8H)(173.4L)(173.6H199.2L)⁴；

第二膜堆为：(173.6H199.2L)⁷；

第三膜堆为：(173.6H 199.2L)³(120.4H)(140.3L)。

2.根据权利要求1所述的膜系结构，其特征在于，所述第一膜堆是非规整膜，和/或，所述第二膜堆为规整膜。

3.根据权利要求1所述的膜系结构，其特征在于，所述膜系结构的面形精度峰谷值小于等于350纳米。

4.根据权利要求1所述的膜系结构，其特征在于，所述膜系结构在1053纳米的损伤阈值大于等于40J/cm²。

5.根据权利要求1所述的膜系结构，其特征在于，所述膜系结构的反射率具有下述特性：

在1053纳米处的P偏光反射率大于等于99.5％；

在450纳米至700纳米之间的反射率大于50％；

在351纳米处的反射率大于50％且小于70％。

6.一种镀膜方法，用于制作如权利要求1至5中任意一项所述的膜系结构，其特征在于，所述方法包括：

提供镀膜环境，所述镀膜环境具有容器、留置于容器内的基板，容器的本底真空度为1.5×10^-4Pa、在80℃的温度下保温6小时；

制作第一膜堆，在0.12nm/s的沉积速度、800V和400mA、真空度为2.7×10^-4Pa条件下制作二氧化铪，在0.5nm/s的沉积速度、350V和350mA、真空度为2.1×10^-4Pa条件下制作二氧化硅；

制作第二膜堆，在0.5nm/s的沉积速度、1000V和400mA、真空度为2.9×10^-4Pa条件下制作二氧化铪，在0.8nm/s的沉积速度、400V和400mA、真空度为2.0×10^-4Pa条件下制作二氧化硅；

制作第三膜堆，在0.1nm/s的沉积速度、1000V和400mA、真空度为2.7×10^-4Pa条件下制作二氧化铪，在0.4nm/s的沉积速度、400V和400mA、真空度为2.1×10^-4Pa条件下制作二氧化硅。

7.一种制作光学薄膜的方法，其特征在于，所述光学薄膜具有如权利要求1至5中任意一项所述的膜系结构，所述方法以包含光谱指标、面形指标以及损伤指标的综合指标为基准，在基板上制备薄膜，所述方法包括：

在基板之上，制作满足光谱指标的第一膜堆；

在第一膜堆之上，制作满足面形指标的第二膜堆；

在所述第二膜堆之上，制作满足损伤指标的第三膜堆。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，第一膜堆、第二膜堆以及第三膜堆分别通过不同的镀膜参数进行沉积镀膜。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在制作第一膜堆、第二膜堆以及第三膜堆的步骤中，镀膜参数包括沉积速率、离子源能量以及真空度。

10.一种激光反射镜，其特征在于，基板和具有如权利要求1至5中任意一项所述的膜系结构。