[发明专利]一种用于全反射X射线荧光分析的旋涂制样方法

权利要求书

1.一种用于全反射X射线荧光分析的旋涂制样方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）称取一定量的待测样品，在所述待测样品中加入适量分散剂制成待测悬浊样品液，在所述待测悬浊样品液中加入内标物，得待测液；

（2）将所述待测液进行均质化混合处理；

（3）移取一定体积的均质化混合处理后的待测液，并将其滴加在洁净的样品载体的中心位置；

（4）将滴加有待测液的样品载体放置于旋涂仪的中心位置，利用旋涂仪将待测液制成均匀分布在样品载体表面的薄膜样层；

（5）将表面承载薄膜样层的样品载体放置于全反射X射线荧光光谱仪的测量室内，利用全反射X射线荧光光谱仪进行样品检测。

2.根据权利要求1所述的旋涂制样方法，其特征在于，步骤（1）中，所述待测悬浊样品液的浓度为10-95wt%。

3.根据权利要求1或2所述的旋涂制样方法，其特征在于，步骤（1）中，所述分散剂为水或含有表面活性剂的水溶液。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的旋涂制样方法，其特征在于，步骤（1）中，所加入内标物占待测液的最终浓度不大于100 mg/kg，优选为1-100 mg/kg。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的旋涂制样方法，其特征在于，步骤（2）中，均质转速为200-3000r/min，均质化持续时间为2-20min。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的旋涂制样方法，其特征在于，步骤（3）中，移取待测液的体积为100-1000μL。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的旋涂制样方法，其特征在于，步骤（3）中，待测液的移取是在保持步骤（2）均质化混合的过程中进行移取。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的旋涂制样方法，其特征在于，所述样品载体为表面具有亲水性的样品载体。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的旋涂制样方法，其特征在于，步骤（4）中，旋涂转速1000 -10000r/min，旋涂持续时间在20 -100s，加速度200-1000m²/s。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的旋涂制样方法，其特征在于，步骤（4）中，薄膜样层的厚度不超过100μm，优选为0.5-100μm。