[发明专利]一种高精度测量大角度光楔楔角的装置及方法在审
申请号: | 202010126547.1 | 申请日: | 2020-02-28 |
公开(公告)号: | CN111238409A | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 吴金才;窦永昊;张亮;何志平 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | G01B11/26 | 分类号: | G01B11/26 |
代理公司: | 上海沪慧律师事务所 31311 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高精度 测量 角度 光楔楔角 装置 方法 | ||
本发明公开了一种高精度测量大角度光楔楔角的装置和方法,该发明基于光楔会使光束产生固定的角度偏转的原理,通过测量光束偏角大小来得到大角度光楔楔角的角度偏差。该装置由准直激光光源、带旋转结构的待检光楔、平行光管、面阵CCD组件组成,准直激光光源经过光楔折射后,再经过平行光管会聚于焦面的面阵CCD上。旋转待检光楔,通过旋转角度及面阵CCD上的光斑位置变化来准确测量光楔角度。本发明装置结构简单、成本低廉、检测方法简单,适用于光楔、平行平板等光学器件的批量生产及高精度测量。
技术领域
本发明涉及光楔参数的测量及标定,具体涉及一种高精度测量大角度光楔楔角的装置及方法。
背景技术
光楔指的是前后两表面有一定夹角的折射棱镜,又叫做楔镜。由于光楔具有使光束偏转固定角度的作用,它通常可以用来分光或透过窗口等光学元件。又利用其拥有改变光束的传播方向的性质,光楔的应用广泛。例如光楔可以被用作激光取光,可以从激光光路中截取部分光做参考光。还可以用作振荡腔的输出镜,来避免后表面发射光对振荡器的影响;另外双光楔扫描的应用十分广泛。在激光相关设备中,接收与发射光轴之间的微小差异一般采用双光楔来进行调节,确保发射与接收的光轴平行性;双光楔还经常应用于激光扫描装置中,如激光切割、激光测距等光学系统。
而在光楔的大批量加工过程中,需要高精度准确的测量出光楔的楔角,尤其是大角度光楔的楔角测量并不快捷。目前测量方法是测角法及其相关的改进方法,如专利号CN201810961946提供了一种透明光楔角度的检测方法与装置,利用棱镜分光和两个CCD,通过测量光楔前后光斑大小来计算得出楔角,该方法测试过程中需要进行转台的调节,引入了相关的读数误差,且过程较为繁琐重复,不利于人员操作和效率提高。该方法用到的器件较多,且存在因CCD空间位置偏心导致光斑为椭圆的情况,测量精度有待商榷。
本发明从便于检测和操作的角度出发,提出了一种高精度测量大角度光楔楔角的装置及方法,通过将平行平板插入在光源和平行光管之间并旋转,来计算旋转前后光斑坐标变化,即可得出待测光楔的楔角,从而准确快速测量大角度光楔的楔角。该方法在实际的生产加工和检测过程中,可以满足便捷和易于操作性的检测要求。
发明内容
本发明的目的是提供一种高精度测量大角度光楔楔角的装置及方法,主要为了满足大角度光楔检测方式的便捷、易于操作性及高精度的要求,适合于实际的大规模生产加工过程中。
一种高精度测量大角度光楔楔角的装置如附图1所示,它包括准直激光光源1、带旋转结构的待测光楔2、平行光管3及面阵CCD组件4,其特征在于:准直激光光源1产生准直激光光束,经过带旋转结构的待测光楔2后光束方向发生偏转,偏转后的光束经过平行光管3会聚后,被平行光管3焦面处的面阵CCD组件4探测。旋转带旋转结构的待测光楔2并记录面阵CCD组件4探测到的光斑坐标变化,通过带旋转结构的待测光楔2的旋转角度及面阵CCD组件4探测到的坐标变化,推算出加入带旋转结构的待测光楔2前后准直激光光源1的角度变化,通过该角度来准确获得带旋转结构的待测光楔2的楔角。
本发明提供了一种高精度测量大角度光楔楔角的装置和方法,其具体实施步骤如下:
1)准直激光光源1发射平行光,经过带旋转结构的待测光楔2后光束方向发生偏转,调整空间位置使得准直激光光源1垂直入射至带旋转结构的待测光楔2上。
2)准直激光光源1产生准直激光光束经过带旋转结构的待测光楔2偏转后,经过平行光管3会聚后成像在其焦面处,将面阵CCD组件4放置在平行光管3焦面处,平行光管3的焦距为f,记录此时光斑质心坐标(X1,Y1)。
3)旋转带旋转结构的待测光楔2,在确保旋转过程中面阵CCD组件4中光斑不消失的前提下,尽量旋转最大角度,记录此时的旋转角度θ及旋转后的光斑质心坐标(X2,Y2)。旋转过程中,光斑会在面阵CCD组件4画出一段圆弧,两坐标点的距离为θ角所对应圆弧的弦长,通过弦长及角度可以得到焦面处所画圆弧的半径r:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海技术物理研究所,未经中国科学院上海技术物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010126547.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。