[发明专利]一种光罩载台以及曝光装置

权利要求书

1.一种光罩载台，用于承载一光罩组件，所述光罩组件包含一光罩以及一防尘薄膜覆盖于所述光罩上，其特征在于，所述光罩载台包含：

一光罩载台基座；

一光罩固定件，设置于所述光罩载台基座上，用于将所述光罩组件固定于所述光罩载台基座上；以及

一静电产生器，连接于所述光罩组件，所述静电产生器用于产生一静电至所述光罩组件，所述静电产生器产生之静电于正电和负电之间交替改变，所述光罩和所述防尘薄膜在所述静电产生器产生正电时均带正电荷，使得位于所述光罩和所述防尘薄膜之间带正电的带电粒子移动至所述光罩和所述防尘薄膜之间的中线上，所述光罩和所述防尘薄膜在所述静电产生器产生负电时均带负电荷，使得位于所述光罩和所述防尘薄膜之间带负电的带电粒子移动至所述中线上。

2.如权利要求1所述之光罩载台，其特征在于，所述静电以一固定频率交替改变。

3.如权利要求2所述之光罩载台，其特征在于，所述静电交替改变的频率为每分钟6至600次。

4.如权利要求1所述之光罩载台，其特征在于，所述光罩组件之光罩包含一穿透层以及一金属层设置于所述穿透层之一面上，所述防尘薄膜覆盖住所述光罩之金属层。

5.如权利要求4所述之光罩载台，其特征在于，所述光罩之穿透层为一石英层或一钠钙玻璃层。

6.如权利要求4所述之光罩载台，其特征在于，所述光罩之金属层为一铬金属层。

7.如权利要求4所述之光罩载台，其特征在于，所述光罩固定件用于固定所述光罩之穿透层。

8.一种曝光装置，用于转移一光罩组件上之一图案至一晶圆上，所述光罩组件包含一光罩以及一防尘薄膜覆盖于所述光罩上，其特征在于，所述曝光装置包含：

一照明模块，其利用一光源所产生的光线来照明所述光罩组件；

一光罩载台，用于承载所述光罩组件，所述光罩载台包含：

一光罩载台基座；

一光罩固定件，设置于所述光罩载台基座上，用于将所述光罩组件固定于所述光罩载台基座上；以及

一静电产生器，连接于所述光罩组件，所述静电产生器用于产生一静电至所述光罩组件，所述静电产生器产生之静电于正电和负电之间交替改变，所述光罩和所述防尘薄膜在所述静电产生器产生正电时均带正电荷，使得位于所述光罩和所述防尘薄膜之间带正电的带电粒子移动至所述光罩和所述防尘薄膜之间的中线上，所述光罩和所述防尘薄膜在所述静电产生器产生负电时均带负电荷，使得位于所述光罩和所述防尘薄膜之间带负电的带电粒子移动至所述中线上；

一投影模块，用于将所述光罩组件之图案投影至所述晶圆；以及

一晶圆载台，用于承载所述晶圆。

9.如权利要求8所述之曝光装置，其特征在于，所述静电交替改变的频率为每分钟6至600次。

10.如权利要求8所述之曝光装置，其特征在于，所述光罩组件之光罩包含一穿透层以及一金属层设置于所述穿透层之一面上，所述防尘薄膜覆盖住所述光罩之金属层。

11.如权利要求10所述之曝光装置，其特征在于，所述光罩之穿透层为一石英层或一钠钙玻璃层，且所述光罩之金属层为一铬金属层。

12.如权利要求8所述之曝光装置，其特征在于，所述晶圆载台包含一晶圆载台基座以及一晶圆固定件，所述晶圆固定件位于所述晶圆载台基座上，用于将所述晶圆固定于所述晶圆载台基座上。

13.如权利要求12所述之曝光装置，其特征在于，进一步包含：

一第一驱动单元连接于所述光罩载台基座，用于驱动所述光罩载台基座；以及

一第二驱动单元连接于所述晶圆载台基座，用于驱动所述晶圆载台基座。