[发明专利]一种OLED掩膜版清洗剂及其清洗工艺

说明书

本发明属于精细金属掩膜版清洗剂制备技术领域，尤其涉及一种OLED掩膜版用的清洗剂及其清洗工艺。以质量百分含量计，其组成如下：醇醚类溶剂20%~50%；极性非质子溶剂20%~50%；含氟的非离子表面活性剂1%~10%；去离子水10%~30%；所述含氟的非离子表面活性剂，其结构式为；，n为8~14之间的自然数；本发明该清洗液能快速并有效清洗除去蒸镀工艺中FMM上附着的RGB光色染料，而且易清洗不残留，有效提高FMM清洗效率。

技术领域

本发明属于精细金属掩膜版清洗剂制备技术领域，尤其涉及一种OLED掩膜版用的清洗剂及其清洗工艺。

背景技术

平板显示器(Plat Panel Display，FPD)是目前最重要的光电产品之一，目前主流的平板显示器可分为液晶显示器（Liquid Crystal Display，LCD）和有机发光二极管（Organic Light Emitting Diodes，OLED）。其中OLED显示器具有自发光，广色域，广视角，响应时间短，发光效率高，而且工作电压低、更轻薄，此外可制作大尺寸和可挠曲面板，并且制作工艺更为简单等特点，是业界公认的可能替代LCD的新一代显示器。

目前比较成熟的OLED显示器制造工艺是OLED蒸镀技术，其产品已经广泛应用于智能手机、智能穿戴、VR等领域。蒸镀技术除了需要精密的蒸镀设备外，还需要用于蒸镀的精细金属掩膜版（Fine Metal Mask，FMM），FMM通常由30~50微米厚的Ni-Co合金（铁镍钴超因瓦合金，Invar）刻蚀出图案后绑定到金属掩膜版框架上，FMM决定了OLED显示屏像素高低和尺寸大小。FMM在重复的蒸镀过程中，小分子有机材料(RGB光色染料等)会在FMM上沉积，造成阻塞与污染，严重影响后续蒸镀的效果。在生产时，一片FMM一般在使用20到30次后都需要进行清洗，来确保其后续效能。

传统的FMM清洗前段只是采用溶剂浸泡清洗，洗净能力有限，对小分子RGB有机染料的溶解和剥离效果较低，甚至在使用过程中长时间不当浸泡会影响FMM的使用寿命，导致OLED显示器的制备成本升高。

发明内容

本发明的目的是提供一种OLED掩膜版用的清洗剂，该清洗液能快速并有效清洗除去蒸镀工艺中FMM上附着的RGB光色染料，而且易清洗不残留，有效提高FMM清洗效率。

本发明首先提供含氟的非离子表面活性剂，其结构式如式Ⅰ所示；

式Ⅰ

n为8~14之间的自然数。

具体地，n为10或12。

所述含氟的非离子表面活性剂可按照如下方法进行制备：

以对醚化三氟化硼（BF₃(CH₃)₂O）为催化剂，在氮气保护下，加热低聚乙二醇（1mol）到100℃，缓慢滴加二氟苯基环氧乙烷（1.1mol），2小时内滴完，反应约4h后即可得到目标的含氟非离子表面活性剂，用酸化的去离子水pH:3~4在80℃条件下洗涤处理，产品过滤后在105℃的真空条件下干燥3小时，即可得到目标氟的非离子表面活性剂；

本发明进一步提供了一种OLED掩膜版用的清洗剂，以质量百分含量计，其组成如下：

醇醚类溶剂 20%~50%；

极性非质子溶剂 20%~50%；

含氟的非离子表面活性剂 1%~10%；

去离子水 10%~30%；

总质量分数之和为100%。