[发明专利]使用涂覆光学制品的机器的方法和再涂覆光学制品的方法

说明书

本发明提供一种使用以防污涂层成分涂覆光学制品的机器的方法。所述机器包括：真空室(8)，被构造用来接收该光学制品；连接到所述真空室(8)的真空泵(20)；等离子体发生器(11)，被构造用来执行光学制品的真空等离子体处理；蒸发装置(10)，被构造用来执行该成分的真空蒸发处理以便将其沉积在光学制品上；控制单元(2)，控制等离子体发生器以便移除该制品的初始最外防污涂层，控制蒸发装置以便用防污涂层成分再涂覆该制品，被构造用来在真空等离子体处理期间引起真空泵(20)从室(8)吸取气体，并且还被构造用来在真空蒸发处理期间引起真空泵(20)不从室(8)吸取气体。本发明还提供一种采用防污涂层成分再涂覆光学制品的方法。

本申请是国际申请日为2012年7月16日、国际申请号为PCT/IB2012/053624、进入中国国家阶段日期为2014年01月17日、国家申请号为201280035418.5、发明名称为“用来以防污涂层成分涂覆光学制品的机器和使用该机器的方法”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及用来以防污涂层成分涂覆光学制品的机器，该光学制品诸如眼镜，并且特别地，优选地安装在眼镜框架上的眼镜片。

本发明还涉及一种使用这种机器的方法。

背景技术

熟知的是，镜片(并且具体地，眼镜片)包括眼用基片，该眼用基片具有适合于佩戴者的几何特征。

眼用基片需要添加涂层，例如用来增加镜片的耐磨性的耐磨涂层，用来减少光的反射的抗反射涂层，和施加在抗反射涂层上的防污涂层。防污涂层提供外部涂层，与抗反射涂层相比，该外部涂层可以更加耐污染(例如有机杂质的污染)并且更容易清洁。防污涂层还保护抗反射涂层。

镜片的佩戴者可能希望更换这种防污涂层，因为所述涂层的效果可能随着时间的过去而降低。

移除第一防污涂层并且用第二防污涂层取代它的一种已知方法在美国专利申请US 2005/0008784中被描述，其中低压力等离子体处理被执行以移除初始涂覆在镜片上的第一防污涂层。接下来，第二防污涂层(新的防污涂层)被涂覆在镜片上，例如通过用编织的或非编织的织物擦拭、喷射、浇铸、滚压或浸没该镜片。因此，第一防污涂层被移除并且被第二防污涂层取代。

从国际专利申请WO 2004/111691也已知这种方法，其中执行在大约大气压力下的技术种类的激活处理(特别地电晕放电处理或等离子体处理)以便移除涂覆的光学镜片的初始最外涂层。接下来，最终涂层，特别地防污涂层，通过真空、浸渍、旋转、喷射或冲压涂覆被沉积在镜片上。因此，镜片的初始最外涂层被移除并且被防污涂层取代。

国际专利申请WO 2007/051841描述一种半完工镜片基片，该半完工镜片基片具有通过真空室中的蒸发而被沉积的称为抗反射涂层的第一涂覆的层，并且具有也通过真空室中的蒸发被沉积的称为防污涂层的第二涂覆的层。在抗反射涂层上的防污涂层的沉积之前，有必要执行预处理。该预处理是激活抗反射涂层的粘附性质所需的高能处理。该高能处理是真空等离子体处理。防污涂层由液体成分制成，该液体成分也需要通过真空等离子体处理被激活。抗反射涂层和液体成分的激活可以在设置有泵的已知真空处理机器的相同真空室中进行。液体成分的真空蒸发通过与真空处理机器关联的蒸发装置进行，该蒸发装置包括在两侧上连接到电路的细长的一片钢丝绒。

本发明涉及一种用来以防污涂层成分涂覆或再涂覆光学制品的机器，该机器实现简单、紧凑且经济。

发明内容

因此，本发明提供一种用来以防污涂层成分涂覆光学制品的机器，所述机器包括：

真空室，所述真空室具有内部空间，所述内部空间被构造用来接收所述光学制品；

真空泵，所述真空泵连接到所述真空室；

等离子体发生器，所述等离子体发生器被构造用来在所述真空室中执行所述光学制品的真空等离子体处理；