[发明专利]使用涂覆光学制品的机器的方法和再涂覆光学制品的方法

权利要求书

1.一种使用以防污涂层成分涂覆光学制品的机器的方法，所述机器包括：

真空室，所述真空室具有内部空间，所述内部空间被构造用来接收所述光学制品；

真空泵，所述真空泵连接到所述真空室；

等离子体发生器，所述等离子体发生器被构造用来在所述真空室中执行所述光学制品的真空等离子体处理；

蒸发装置，所述蒸发装置被构造用来执行所述防污涂层成分的真空蒸发处理，以便在所述真空室中将所述防污涂层成分沉积在所述光学制品上；和

控制单元，所述控制单元被构造用来控制所述等离子体发生器和所述蒸发装置，所述方法按顺序包括以下步骤：

选择光学制品，所述光学制品具有初始最外防污涂层；

将所述光学制品装载到所述机器的真空室中；

将所述防污涂层成分装载到所述真空室中；

通过将所述真空泵连接到所述真空室来启动所述机器的真空泵的操作，以抽空所述真空室的内部空间，从而引起所述真空泵从所述真空室吸取气体；

采用所述等离子体发生器执行所述真空等离子体处理，并且采用所述控制单元控制所述等离子体发生器，以便移除所述光学制品的初始最外防污涂层；

引起所述真空泵与所述真空室断开连接，从而所述真空泵不能从所述真空室吸取气体；

使所述真空泵与所述真空室再连接，以抽空所述真空室预定的时间量，直到真空室压力达到蒸发所需的压力，所述真空室压力由压力传感器测量；

在所述真空室压力达到蒸发所需的压力后，使所述真空泵与所述真空室断开连接；

通过加热所述防污涂层成分而采用蒸发装置执行所述真空蒸发处理，使得所述防污涂层成分在所述真空室中蒸发，以便用所述防污涂层成分再涂覆所述光学制品；和

从所述真空室卸载所述光学制品。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述机器还包括真空阀，所述真空阀布置在所述真空室和所述真空泵之间，

所述方法还包括打开和关闭所述真空阀以使所述真空泵相应地抽吸和不抽吸。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述机器包括过滤装置，所述过滤装置连接到所述真空室，并且

在执行所述真空蒸发处理之后，所述方法还包括：

将所述真空泵与所述真空室进一步再连接，并且将从所述真空室吸取的气体提供给所述过滤装置；和

在所述过滤装置处过滤所述气体。

4.根据权利要求3所述的方法，还包括在过滤后使所述真空泵与所述真空室断开连接。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述机器包括气体入口阀，所述气体入口阀连接到所述真空室，

所述方法还包括在执行所述真空等离子体处理之前，打开所述气体入口阀。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，执行所述真空蒸发处理包括加热所述防污涂层成分预定时间。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述机器包括坩埚，所述坩埚被构造用来接收所述防污涂层成分，并且

通过加热所述坩埚来执行所述防污涂层成分的加热。