[发明专利]一种真空镀膜机用的工件上料机构在审
申请号: | 202010017861.6 | 申请日: | 2020-01-08 |
公开(公告)号: | CN110923657A | 公开(公告)日: | 2020-03-27 |
发明(设计)人: | 洪瑶海;洪锦隆 | 申请(专利权)人: | 深圳市顺捷真空技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518104 广东省深圳市宝安区沙井*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 工件 机构 | ||
本发明公开了一种真空镀膜机用的工件上料机构,包括机体、滑轨、固定螺栓、限位挡板、传送带、滑块、承台、嵌入槽、放置盘、嵌入块、固定块、摩擦垫和放置台,所述机体的上端两侧固定有滑轨,且滑轨的内侧两端设置有固定螺栓,所述机体的中部两侧分布有限位挡板,且限位挡板的内侧设置有传送带,所述滑轨的上端顶部滑动连接有滑块,且滑块的内侧固定有承台。该真空镀膜机用的工件上料机构设置有滑轨,滑轨沿机体的中心线处对称分布,整个滑轨与机体采用螺钉紧固进行连接在一起,其连接机构稳定,同时通过拧下固定螺栓即可达到对滑轨与机体进行分离的效果,该拆装方式及其简单,便于使用者进行检修与查看。
技术领域
本发明涉及真空镀膜机技术领域,具体为一种真空镀膜机用的工件上料机构。
背景技术
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种,需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中,在工件镀膜过程中,需要通过上料设备,对工件进行运输,保证工件能够有效进入真空镀膜机内。
市场上的工件上料机构在使用中多采用一体化设计,其工件放入难度较高,同时易发生倾斜情况,并且在输送过程中,出现承台卡涩的可能,为此,我们提出一种真空镀膜机用的工件上料机构。
发明内容
针对现有技术中存在的上述不足之处,本发明目的是提供一种真空镀膜机用的工件上料机构。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种真空镀膜机用的工件上料机构,包括机体、滑轨、固定螺栓、限位挡板、传送带、滑块、承台、嵌入槽、放置盘、嵌入块、固定块、摩擦垫和放置台,所述机体的上端两侧固定有滑轨,且滑轨的内侧两端设置有固定螺栓,所述机体的中部两侧分布有限位挡板,且限位挡板的内侧设置有传送带,所述滑轨的上端顶部滑动连接有滑块,且滑块的内侧固定有承台,所述承台的内侧中部开设有嵌入槽,且承台的上端顶部分布有放置盘,所述放置盘的下端两侧固定有嵌入块,且放置盘的下端中部设置有固定块,所述固定块的下端底部贴合有摩擦垫,所述放置盘的上端设置有放置台。
优选的,所述滑轨与机体之间为可拆卸结构,且滑轨沿机体的中心线处对称分布。
所述滑块与承台之间为焊接一体化结构,且滑块与滑轨之间为滑动连接。
所述放置盘通过嵌入块与嵌入槽之间构成嵌入式结构,且嵌入块呈棱锥状分布分布。
所述固定块与摩擦垫之间为胶接,且摩擦垫与传送带之间相互贴合。
所述放置台与机体之间呈平行状分布,且机体呈水平状分布。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:该真空镀膜机用的工件上料机构设置有滑轨,滑轨沿机体的中心线处对称分布,整个滑轨与机体采用螺钉紧固进行连接在一起,其连接机构稳定,同时通过拧下固定螺栓即可达到对滑轨与机体进行分离的效果,该拆装方式及其简单,便于使用者进行检修与查看。
滑块与滑轨之间为滑动连接,整个滑块与承台之间采用焊接的形式连接在一起,其连接强度高,结构稳定,并且该滑块起到良好的润滑与限位效果,能够有效降低承台与滑轨之间的摩擦系数,当承台在滑动过程中,呈匀速平滑状滑动。
嵌入块呈棱锥状分布分布,当使用者需要将放置盘放置在承台上端时,只需将放置盘两侧的嵌入块沿滑块上端开设的嵌入槽处进行放置即可,嵌入槽对嵌入块进行限位加紧,同时通过棱锥状分布,保证嵌入块能够迅速嵌入至嵌入槽内,减化安置难度,方便使用。
附图说明
图1为本发明俯视结构示意图;
图2为本发明放置盘结构示意图;
图3为本发明滑块结构示意图。
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