[发明专利]带电粒子显微镜装置及其视野调整方法在审

专利信息
申请号: 201980100022.6 申请日: 2019-09-20
公开(公告)号: CN114342036A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 小林光俊;宫本敦;星野吉延 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: H01J37/22 分类号: H01J37/22
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;范胜杰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 带电 粒子 显微镜 装置 及其 视野 调整 方法
【权利要求书】:

1.一种带电粒子显微镜装置中的视野调整方法,其特征在于,

所述视野调整方法使用带电粒子显微镜,

所述视野调整方法包含以下步骤:

参照数据设定步骤,设定试样的参照数据;

关心区域设定步骤,针对所述参照数据设定多个关心区域;

采样坐标设定步骤,针对所述多个关心区域的各区域设定稀疏的采样坐标组;

采样坐标拍摄步骤,根据所述采样坐标组,对所述试样照射带电粒子而得到对应的像素值组;

重构图像生成步骤,根据所述像素值组生成与所述多个关心区域对应的多个重构图像;

对应关系推定步骤,根据所述多个重构图像推定所述多个关心区域的对应关系;以及

关心区域调整步骤,根据所述对应关系调整所述多个关心区域,

在所述采样坐标设定步骤中,根据所述参照数据设定所述采样坐标组。

2.根据权利要求1所述的视野调整方法,其特征在于,

在所述参照数据设定步骤中作为所述参照数据,设定由所述带电粒子显微镜装置取得的所述试样的图像、根据由所述带电粒子显微镜装置取得的所述试样的稀疏的采样数据重构而得的图像、所述样品的设计数据、由与所述带电粒子显微镜装置不同的装置取得的所述试样的图像中的至少一个。

3.根据权利要求1所述的视野调整方法,其特征在于,

在所述对应关系推定步骤中,求出所述对应关系的推定可否,

在所述采样坐标拍摄步骤中,根据所述推定可否来控制帧相加数。

4.根据权利要求1所述的视野调整方法,其特征在于,

在所述多个关心区域中包含至少一个以上的采样数相互不同的关心区域的组。

5.根据权利要求1所述的视野调整方法,其特征在于,

将所述多个关心区域标记为{ri}(其中,i=1~M,M:关心区域数),

将与关心区域{ri}的第j次(其中,j=1~F,F:帧相加数)的帧对应的所述采样坐标组标记为{si,j,k}(其中,k=1~Nj,Nj:每帧的采样数)时,

根据所述参照数据的第一关心区域{r1}与其他关心区域{ri}(i≠1)的变换矩阵{Ti}(i=2~M)设定所述采样坐标组{si,j,k}。

6.根据权利要求1所述的视野调整方法,其特征在于,

将所述多个关心区域标记为{ri}(其中,i=1~M,M:关心区域数),

将与关心区域{ri}的第j次(其中,j=1~F,F:帧相加数)的帧对应的所述采样坐标组标记为{si,j,k}(其中,k=1~Nj,Nj:每帧的采样数),

将与关心区域{ri}的第j次的帧对应的所述像素值组标记为{yi,j,k},

将与关心区域{ri}对应的所述重构图像标记为{Yi}时,

将所述采样坐标组{si,j,k}与所述参照数据和所述重构图像{Yi}中的至少一个一并显示。

7.一种带电粒子显微镜装置,其特征在于,包含:

参照数据设定部,其设定试样的参照数据;

关心区域设定部,其针对所述参照数据设定多个关心区域;

采样坐标设定部,其针对所述多个关心区域的各区域设定稀疏的采样坐标组;

采样坐标拍摄部,其根据所述采样坐标组,对所述试样照射带电粒子而得到对应的像素值组;

重构图像生成部,其根据所述像素值组分别生成所述多个关心区域的重构图像;

对应关系推定部,其根据所述重构图像推定所述多个关心区域的对应关系;以及

关心区域调整部,其根据所述对应关系调整所述多个关心区域,

在所述采样坐标设定部中根据所述参照数据设定所述采样坐标组。

8.根据权利要求7所述的带电粒子显微镜装置,其特征在于,

在所述参照数据设定部中,作为所述参照数据,设定由所述带电粒子显微镜装置取得的所述试样的图像、根据由所述带电粒子显微镜装置取得的所述试样的稀疏的采样数据重构而得的图像、所述试样的设计数据、由与所述带电粒子显微镜装置不同的装置取得的所述试样的图像中的至少一个。

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