[发明专利]倾斜表面浮雕结构上的外覆层的平坦化

权利要求书

1.一种平坦化衬底上的表面浮雕结构上的外覆层的方法，所述方法包括：

使用离子束以掠射角移除所述外覆层的一部分，其中：

所述外覆层包括：

多个平坦表面部分；以及

多个非平坦表面部分，其中，所述多个非平坦表面部分中的每一个包括第一倾斜侧和面向所述第一倾斜侧的第二倾斜侧；

所述掠射角是所述离子束与所述多个平坦表面部分之间的角度；以及

选择所述掠射角，使得所述多个非平坦表面部分中的每一个的第一倾斜侧相对于所述离子束被所述多个平坦表面部分中的相邻平坦表面部分遮蔽，从而所述离子束不到达所述多个非平坦表面部分中的每一个的至少第一倾斜侧，而是到达所述多个非平坦表面部分中的每一个的第二倾斜侧。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述多个非平坦表面部分是凹的，其中，所述多个非平坦表面部分中的每一个还包括在所述第一倾斜侧和所述第二倾斜侧之间的底部，并且其中，所述掠射角被还选择成使得所述离子束不到达所述多个非平坦表面部分中的每一个的底部。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中：

所述多个非平坦表面部分中的每一个的第一倾斜侧相对于所述多个平坦表面部分中的相邻平坦表面部分以第一角度定向；并且

所述掠射角小于所述第一角度。

4.根据任一前述权利要求所述的方法，并且以下一项或更多项成立：

a)其中，所述掠射角的范围在1°和15°之间；

b)其中，使用原子层沉积工艺将所述外覆层沉积在所述表面浮雕结构上。

5.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，使用所述离子束移除所述外覆层的所述部分包括：

随着通过所述离子束移除所述外覆层的所述部分，减小所述掠射角；

可选地，其中所述掠射角从15°减小到小于1°。

6.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，所述表面浮雕结构包括相对于所述衬底倾斜的多个脊，以及多个槽，每个槽在两个相邻的脊之间；

可选地，其中所述多个槽各自具有至少100nm的深度；并且

可选地，其中所述多个脊各自具有至少45°的倾斜角。

7.一种在衬底上的表面浮雕结构上形成外覆层的方法，所述方法包括：

接收所述衬底，其中，所述表面浮雕结构包括：

相对于所述衬底倾斜的多个脊；以及

多个槽，每个槽在两个相邻的脊之间；以及

在多次循环的每次循环中，在所述多个脊的表面和所述多个槽的底部上沉积第一外覆材料的均匀层；以及

使用旋涂工艺在所述第一外覆材料的层上沉积第二外覆材料。

8.根据权利要求7所述的方法，并且以下一项或更多项成立：

a)其中，所述多个脊各自具有至少45°的倾斜角；

b)其中，在每次循环中仅沉积所述第一外覆材料的一个原子层；

c)其中，所述第二外覆材料的折射率匹配所述第一外覆材料的折射率。

9.根据权利要求7或8所述的方法，所述方法还包括：

移除沉积在所述第一外覆材料上的所述第二外覆材料，以暴露沉积在所述表面浮雕结构上的所述第一外覆材料；以及

移除所述第一外覆材料的一部分以获得所述第一外覆材料的平坦顶表面。

10.根据权利要求9所述的方法，并且以下一项或更多项成立：

a)其中，移除所述第二外覆材料和/或所述第一外覆材料的所述部分包括使用化学机械抛光工艺移除所述第二外覆材料和/或所述第一外覆材料的所述部分；

b)其中，移除所述第二外覆材料和/或所述第一外覆材料的所述部分包括使用掠射离子束蚀刻移除所述第二外覆材料和/或所述第一外覆材料的所述部分。