[发明专利]隔膜清洁设备

说明书

一种用于从隔膜移除粒子的隔膜清洁设备，包括：隔膜支撑件；以及电场生成机构。所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜。所述电场生成机构用于当所述隔膜由所述隔膜支撑件支撑时在所述隔膜附近生成电场。所述电场生成机构可以包括：一个或更多个集电极；和用于跨越由所述隔膜支撑件支撑的所述隔膜和所述一个或更多个集电极中的一个或每个集电极施加电压的机构。

相关申请的交叉引用

本申请要求2018年11月27日提交的欧洲申请18208555.5、和2019年5月10日提交的欧洲申请19173742.8、以及2019年6月14日提交的欧洲申请19180219.8的优先权，这些申请的全部内容通过引用而被合并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种隔膜清洁设备和相关方法。所述设备和方法具有用于清洁光刻设备中所使用的表膜的特定应用。

背景技术

光刻设备是一种被构造成将所需的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以例如将设置在图案形成装置(例如，掩模)上的图案投影到设置在衬底(例如，硅晶片)上的辐射敏感材料的层上。光刻设备可以用于集成电路的制造中。

为了将图案投影在衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。此辐射的波长确定了可以在衬底上形成的特征的最小大小。与使用例如具有193nm波长的辐射的光刻设备相比，使用具有在4nm至20nm(例如6.7nm或13.5nm)的范围内的波长的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成更小的特征。

存在于图案形成装置上的不需要的粒子可有助于赋予至辐射束的图案。在光刻设备中，这可能导致施加到衬底上的所述图案发生错误。因此，重要的是防止粒子到达并且由此污染所述图案形成装置。已知的是在光刻设备中的粒子源与图案形成装置之间设置隔膜以防止粒子到达所述图案形成装置。用于此目的的隔膜在本领域中被称为表膜。

所述表膜与所述图案形成装置间隔开，使得其不在场平面内，且因此在所述表膜上的任何粒子不应该被成像(因此，不应促成施加至所述衬底的图案的错误)。然而，所述表膜上的粒子可能在衬底的曝光期间导致对所述辐射的吸收增加，并且因此导致所述表膜上的局部热点，这可能会导致所述表膜的故障。另外，所述表膜的面朝所述图案形成装置的表面上的粒子可能被转移到所述图案形成装置，由此它们可能导致施加到所述衬底上的图案的错误。

可能需要提供一种用于清洁隔膜(例如，表膜)的设备和相关方法。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供了一种用于从隔膜移除粒子的隔膜清洁设备，该装置包括：隔膜支撑件，用于支撑隔膜；以及电场生成机构，用于当隔膜由隔膜支撑件支撑时在隔膜附近生成电场。

根据本发明的第一方面的装置提供了一种布置，在该布置中可以使用电场从隔膜移除粒子。在使用中，隔膜可以由隔膜支撑件支撑。电场生成机构可以用于当隔膜由隔膜支撑件支撑时在隔膜附近生成电场，以便从隔膜的表面驱逐粒子。另外或替代地，电场生成机构可以用于当隔膜由隔膜支撑件支撑时在隔膜附近生成电场，以便将粒子从隔膜的表面传输走。

将了解到，如本文所使用的，电场生成机构旨在表示可以生成电场的装置的任何布置。特别地，术语电场生成机构并不旨在暗示任何机械移动部件。

电场生成机构可以包括：一个或更多个集电极；以及用于跨越由隔膜支撑件的隔膜和一个或更多个集电极中的集电极或每个施加电压的机构。

这提供了用于在隔膜附近生成电场的便利机构。

该装置可以包括用于当隔膜由隔膜支撑件支撑时在隔膜中引起机械振荡的机构。

有利地，这种布置特别适合于清洁隔膜，该隔膜可以是较薄且柔性的，如现在所论述的。