[发明专利]在后处理系统中对NOX

权利要求书

1.一种被配置为还原由发动机生成的废气的成分的后处理系统，所述后处理系统包括：

选择性催化还原催化剂或氨氧化催化剂；

光学组件，所述光学组件包括：

光学发射器，所述光学发射器被配置为将光发射到所述选择性催化还原催化剂或氨氧化催化剂的表面上，和

光学检测器，所述光学检测器被配置为检测从所述选择性催化还原催化剂或氨氧化催化剂的表面反射的光；和

控制器，所述控制器被配置为基于已经从所述选择性催化还原催化剂或氨氧化催化剂的表面反射的检测到的光的光学参数来确定以下中的至少一项：在所述选择性催化还原催化剂或氨氧化催化剂的表面上的NO_X的量或氨的量。

2.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述控制器被配置为基于从所述光学发射器发射的光的参数和已经从所述选择性催化还原催化剂或氨氧化催化剂的表面反射的所述检测到的光的参数之间的差异来确定以下中的至少一项：在所述选择性催化还原催化剂或氨氧化催化剂的表面上的NO_X的量或氨的量。

3.根据权利要求1或2所述的后处理系统，其中，所发射的光具有在红外范围内的波长。

4.根据权利要求1或2所述的后处理系统，其中，所发射的光具有在紫外可见范围内的波长。

5.根据权利要求1或2所述的后处理系统，其中，所述选择性催化还原催化剂或氨氧化催化剂的表面是以下中的一个：被构造成接收所述废气的入口表面或被构造成排出废气的出口表面。

6.根据权利要求1或2所述的后处理系统，其中：

所述后处理系统包括所述选择性催化还原催化剂和所述氨氧化催化剂，

所述选择性催化还原催化剂在所述氨氧化催化剂的上游，以及

所述光学发射器被配置为将光发射到所述氨氧化催化剂的表面上，

所述光学检测器被配置为检测从所述氨氧化催化剂的表面反射的光，以及

所述控制器被配置为确定以下中的至少一项：在所述氨氧化催化剂的表面上的NO_X的量或氨的量。

7.根据权利要求1或2所述的后处理系统，其中，所述光学发射器被设置在所述后处理系统的第一位置处，并且所述光学检测器被设置在所述后处理系统的与所述第一位置相对的第二位置处。

8.根据权利要求1或2所述的后处理系统，其中，所述控制器还被配置为基于所确定的在所述选择性催化还原催化剂或氨氧化催化剂的表面上的NO_X和/或氨的量来确定在所述选择性催化还原催化剂或氨氧化催化剂的整个体积上吸附的NO_X的量和/或氨的量。

9.根据权利要求8所述的后处理系统，还包括：

还原剂添加组件，所述还原剂添加组件被配置为将还原剂添加到流经所述后处理系统的所述废气中，其中：

所述光学发射器被配置为将光发射到所述选择性催化还原催化剂的表面上，

所述光学检测器被配置为检测从所述选择性催化还原催化剂的表面反射的光，

所述控制器被配置为确定以下中的至少一项：在所述选择性催化还原催化剂的表面上的NO_X的量或氨的量，

所述控制器能够操作地耦合到所述还原剂添加组件，以及

所述控制器被配置为响应于确定在所述选择性催化还原催化剂的整个体积上吸附的氨的量低于氨储存阈值，指示所述还原剂添加组件将还原剂添加到所述废气中。

10.根据权利要求9所述的后处理系统，其中，所述控制器还被配置为响应于确定在所述选择性催化还原催化剂的表面上的NO_X的量高于NO_X阈值，指示所述还原剂添加组件将还原剂添加到所述废气中。