[发明专利]具有高度腐蚀的粒子表面和高韧性指数的立方氮化硼粒子群在审
| 申请号: | 201980059758.3 | 申请日: | 2019-09-12 |
| 公开(公告)号: | CN112739645A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
| 发明(设计)人: | 艾达莫西·达利斯;蒂莫西·达姆;张凯 | 申请(专利权)人: | 戴蒙得创新股份有限公司 |
| 主分类号: | C01B21/064 | 分类号: | C01B21/064;C04B35/5831;C04B41/00;C04B41/45;C04B41/53;C09K3/14 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨海荣;曲盛 |
| 地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 高度 腐蚀 粒子 表面 韧性 指数 立方 氮化 | ||
1.多个腐蚀的立方氮化硼粒子,其中各个立方氮化硼粒子包含多个蚀坑、多个凹槽,并且粒子群的韧性指数比具有相同化学组成、晶体结构和形状的未腐蚀、非粗糙的立方氮化硼粒子群低约10~约20分。
2.如权利要求1所述的粒子群,其中所述多个蚀坑各自的宽度为约500nm~约1.5μm之间并且深度为约100nm~约1μm。
3.如权利要求1所述的粒子群,其中所述多个凹槽各自的长度为约5μm~约30μm之间并且深度为约100nm~约1μm,并且宽度为约500nm。
4.如权利要求1所述的粒子群,其中所述多个腐蚀的立方氮化硼粒子各自为单晶立方氮化硼粒子。
5.如权利要求1所述的粒子群,其中所述多个腐蚀的立方氮化硼粒子各自为多晶立方氮化硼粒子。
6.如权利要求1所述的粒子群,其中各个粒子的尺寸为10μm~1000μm之间。
7.如权利要求1所述的粒子群,其中由蚀坑和凹槽覆盖的粒子表面为约20%~60%之间。
8.如权利要求1所述的粒子群,其中所述粒子涂布有玻璃层。
9.如权利要求8所述的粒子群,其中玻璃重量的百分比小于所述粒子重量的10%。
10.如权利要求1所述的粒子群,其中所述粒子被氧化物覆盖。
11.如权利要求1所述的粒子群,其中所述粒子被金属覆盖。
12.如权利要求11所述的粒子群,其中所述金属是镍。
13.如权利要求11所述的粒子群,其中所述金属是钛。
14.一种制造粒子群的方法,所述方法包括:
将反应性金属粉末与多个立方氮化硼粒子共混以形成共混的混合物;
将所述共混的混合物压缩以形成压缩混合物;
使所述压缩混合物经受温度和压力,其中控制所述温度以通过使立方氮化硼与所述反应性金属粉末反应来引起所述多个立方氮化硼粒子的腐蚀,从而形成多个腐蚀的立方氮化硼粒子,并且控制所述温度和压力以使氮化硼保持为立方氮化硼相;和
从所述压缩混合物回收所述多个腐蚀的立方氮化硼粒子以形成所述粒子群。
15.如权利要求14所述的方法,其中所述压力为约3吉帕斯卡以上。
16.如权利要求14所述的方法,其中所述温度为约1300℃以上。
17.如权利要求14所述的方法,其中所述粒子群不包含六方氮化硼。
18.如权利要求14所述的方法,其中所述粒子群的韧性指数比具有相同化学组成、晶体结构和形状的未腐蚀、非粗糙的立方氮化硼粒子群低约10~约20分。
19.如权利要求14所述的方法,其中所述多个立方氮化硼粒子各自为单晶立方氮化硼粒子。
20.如权利要求14所述的方法,其中所述多个立方氮化硼粒子各自为多晶立方氮化硼粒子。
21.如权利要求14所述的方法,其中所述反应性金属粉末选自:锂、铍、钙、锶、镁、钛、锆、铝、镓、铟、钨、铪、铬、钴、镍、钒、钽、铌和铁。
22.如权利要求14所述的方法,其中粒子尺寸为10μm~1000μm之间。
23.如权利要求14所述的方法,其中所述多个腐蚀的立方氮化硼粒子各自包含多个蚀坑和多个凹槽,并且所述多个蚀坑各自的宽度为约500nm~约1.5μm之间,并且深度为约100nm~约1μm之间,并且所述多个凹槽各自的宽度为约500nm,长度为约5μm~约30μm,并且深度为约100nm~约1μm。
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