[发明专利]清洗浴槽

权利要求书

1.一种清洗浴槽，该清洗浴槽在使保持于盒的半导体基板与所述盒一起浸渍于存积的处理液的状态下，对所述半导体基板进行超声波处理，其中，

所述清洗浴槽具备：

底壁部；

筒状侧壁部，从所述底壁部立起，并在内部存积所述处理液；以及

制止部，对浸渍于所述处理液的所述盒向所述底壁部的面内方向以及相对于所述面内方向的交叉方向的移动进行制止，

在所述筒状侧壁部的与筒轴方向正交的截面中，所述筒状侧壁部的内侧面的周向的一部分为曲线并且余下部分为直线。

2.根据权利要求1所述的清洗浴槽，其中，

所述制止部具有制止所述盒向所述面内方向的移动的第一制止部、和制止所述盒向所述交叉方向的移动的第二制止部。

3.根据权利要求2所述的清洗浴槽，其中，

所述第一制止部包括多个第一制止片，所述多个第一制止片设置为在浸渍于所述处理液的所述盒的外侧周围沿周向排列。

4.根据权利要求3所述的清洗浴槽，其中，

所述多个第一制止片中的至少一部分构成为能够相对于浸渍于所述处理液的所述盒接触或分离。

5.根据权利要求3或4所述的清洗浴槽，其中，

所述多个第一制止片具有与所述盒的表面匹配的匹配面。

6.根据权利要求2～5中任一项所述的清洗浴槽，其中，

所述第二制止部包括第二制止片，所述第二制止片设置为与所述底壁部对置并且与所述底壁部的间隔变化。

7.根据权利要求6所述的清洗浴槽，其中，

还具备顶面部，所述顶面部经由转动机构可转动地安装于所述筒状侧壁部，

所述第二制止片设置于所述顶面部，并构成为随着所述顶面部经由所述转动机构的转动，所述第二制止片与所述底壁部的间隔变化。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的清洗浴槽，其中，

在所述筒状侧壁部的与筒轴方向正交的截面中，所述筒状侧壁部的内侧面的曲线设置有一个或多个，且为圆弧状或弓状的曲线。

9.根据权利要求8所述的清洗浴槽，其中，

至少一个所述圆弧状或弓状的曲线的曲率中心位于所述筒状侧壁部的内侧。

10.根据权利要求8所述的清洗浴槽，其中，

至少一个所述圆弧状或弓状的曲线的曲率中心位于所述筒状侧壁部的外侧。

11.根据权利要求8所述的清洗浴槽，其中，

所述圆弧状或弓状的曲线设置有多个，

所述多个圆弧状或弓状的曲线中的一部分曲线的曲率中心位于所述筒状侧壁部的内侧，

余下的曲线的曲率中心位于所述筒状侧壁部的外侧。

12.根据权利要求8或9所述的清洗浴槽，其中，

在所述筒状侧壁部的与筒轴方向正交的截面中，所述筒状侧壁部的内侧面形成为包括相互平行的两条直线和将所述两条直线的一侧端部彼此以及另一侧端部彼此连结且曲率中心位于所述筒状侧壁部的内侧的圆弧状或弓状的曲线的形状、或者大致D字状。