[发明专利]测量装置、测量系统、测量程序以及测量方法在审
| 申请号: | 201980047448.X | 申请日: | 2019-07-26 |
| 公开(公告)号: | CN112771367A | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
| 发明(设计)人: | 渡边义浩;石川正俊;加地宏乃介 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人东京大学 |
| 主分类号: | G01N21/47 | 分类号: | G01N21/47 |
| 代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 张天一 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 测量 装置 系统 程序 以及 测量方法 | ||
本发明提供了一种以少量采样数且更加高速和高精确度地测量所期望的对象物的反射特性的测量装置、测量系统、测量程序以及测量方法。根据本发明的一种实施方式,提供一种反射特性的测量装置,其特征在于具备控制部,所述控制部构成为基于对象信息和指令信息来测量对象物的反射特性,所述对象信息是包含与入射光的光源位置、反射光的光检测位置和所述对象物中的测量部位的坐标位置关系以及所述入射光和所述反射光有关数值的信息,所述入射光是被照射至所述测量部位的光,所述反射光是由所述入射光被照射至所述测量部位然后从所述测量部位反射的光,所述指令信息是与所述反射特性的已知测量结果有关的信息,所述对象信息所包含的所述坐标位置关系的组合数为1~15。
技术领域
本发明涉及反射特性的测量装置、测量系统、测量程序以及测量方法。
背景技术
作为对象物的视觉质感的构成要素,″反射特性″非常重要。反射特性在数据归档和品质管理等领域中起着重要作用。在测量反射特性时,通过将入射光照射至物体并检测其反射光的方式进行采样。反射特性表示为函数,所述函数是从变量所形成的空间上采样的值来推定的。例如,非专利文献1公开了一种能够测量反射特性的测角仪。测角仪是由光源以及光检测器等构成的测量装置,以可在任意的采样方向上测量数值的特征而被广泛使用。
现有技术文献
非专利文献
非专利文献1:Sing Choong Foo著,″A gonioreflectometer for measuring thebidirectional reflectance of material for use in illumination computation″,1997 年。
发明内容
然而,当使用诸如测角仪等测量装置来测量反射特性时,需要从大量的方向上对入射光/反射光进行采样。例如,在反射特性中相对简单的各向同性的双向反射率分布函数(Bidirectional Refflectance Distribution Function:BRDF)具有三个自由度的角度参数,但若假设每个参数各采样一次,则会是90×90×180=1,458,000的庞大采样数,并且测量时间较长也会成为问题。因此,可以说需要进一步缩短测量反射特性所需的时间。
针对以上情况,本发明旨在提供一种能够以少数采样快速且高精准度地测量所期望的对象物的反射特性的测量装置、测量系统、测量程序以及测量方法。
根据本发明的一种实施方式,提供一种反射特性的测量装置,其特征在于具备控制部,所述控制部构成为基于对象信息和指令信息来测量对象物的反射特性,所述对象信息是包含与入射光的光源位置、反射光的光检测位置和所述对象物中的测量部位的坐标位置关系以及所述入射光和所述反射光有关数值的信息,所述入射光是被照射至所述测量部位的光,所述反射光是由所述入射光被照射至所述测量部位然后从所述测量部位反射的光,所述指令信息是与所述反射特性的已知测量结果有关的信息,所述对象信息所包含的所述坐标位置关系的组合数为1~15。
本发明所涉及的测量装置基于包含光源位置、光检测位置和测量部位的坐标位置关系 (采样方向)与入射光和反射光有关数值(采样值)的信息(对象信息)以及反射特性的已知测量结果有关的信息(指令信息)来测量对象物的反射特性。特别需要留意的是,对象信息所包含的坐标位置关系的组合数(采样数)为1~15。具有这种构造的测量装置可以起到在很短时间内能够测量所期望的反射特性的效果。
附图说明
图1为本实施例所涉及的测量系统的结构概要图。
图2为本实施例所涉及的测量装置中控制部的功能模块图。
图3A及图3B为表示Rusinkiewicz坐标系的图。
图4为表示神经网络的概要图。
图5为表示样本数为6的示例图。
图6A为表示图5所示情况下的反射特性的测量结果的图,图6B为表示图5所示情况下的反射特性的真值的图。
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