[发明专利]使用脉冲电磁场来改变产品状态和/或所述产品的产生的设备和方法

权利要求书

1.一种允许电磁场施加到产品一时间段以改变所述产品的状态的设备，所述设备包括至少一个支撑件和所述产品位于其中的容器，并且其中，所述支撑件包括用于产生脉冲电磁场(PEMF)的一个或多个模块，并且所述支撑件包括或被连接到控制装置以控制PEMF的产生，并且相对于所述产品可定位以允许产品被暴露到产生的所述脉冲电磁场。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备被设置成允许PEMF的传输以促进所述产品的组分的充分混合。

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述控制装置控制所发射的PEMF的频率和数字序列，以对应于当时被保持在所述容器中的产品的介电特性和/其它特性。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，所述控制装置以设置在支撑件上的集成电路的形式被设置。

5.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，所述控制装置又可通过基于软件的使用者界面来操作，以允许使用者控制从装置产生PEMF。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，所述支撑件和/或模块相对于所述容器是可定位的，从而允许保持在所述容器中的产品被暴露到所述PEMF。

7.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，多个所述模块以固定的阵列或构造设置在所述支撑件上，以提供增加的PEMF范围和/或强度。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，所述支撑件位于所述容器的外部，并且所述PEMF通过所述产品位于其中的容器的一个或多个壁被施加到所述产品。

9.根据权利要求1至7中的任一项所述的设备，其特征在于，包括用于产生所述PEMF的一个或多个模块的所述支撑件的至少一部分位于所述容器的内部。

10.根据权利要求9所述的设备，其特征在于，多个支撑件位于所述容器内的不同位置处，以提供到所述PEMF的均匀暴露。

11.根据权利要求1-7中的任一项所述的设备，其特征在于，所述支撑件由所述容器的一个或多个壁形成，并且所述模块被安装作为所述一个或多个壁的一部分。

12.根据权利要求1-7中的任一项所述的设备，其特征在于，所述支撑件位于所述容器的一个或多个壁内。

13.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，所述支撑件以壳体的形式提供，所述一个或多个模块位于所述壳体中。

14.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，所述支撑件被设置为所述模块位于其上的片材。

15.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，所述支撑件以无菌形式设置以供使用并且被设置用于单次使用。

16.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，所述模块包括天线和发射器，以允许在特定频率范围内所述PEMF的无线短程通信。

17.根据权利要求16所述的设备，其特征在于，所述特定频率范围是工业、科学和医学(ISM)短程无线电频带。

18.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，所述频率是2.4GHz。

19.根据权利要求16所述的设备，其特征在于，所述发射器能够产生高达15米的距离的PEMF。