[发明专利]用于以含碳层对基底覆层的设备

权利要求书

1.一种用于在带状的连续的基底(2)上沉积石墨烯、碳纳米管或其它含碳的层的设备，所述基底(2)通过入口(12)进入反应器壳体(1)并且通过出口(12’)离开反应器壳体(1)，所述基底(2)沿传输方向从入口(12)经过布置在所述反应器壳体(1)中的、由控温装置(8)调温的处理区(5)被传输到出口(12’)，其中，在所述处理区(5)与入口(12)之间和/或在所述处理区(5)与出口(12')之间布置有阻隔热传递的器件(14，15，16，17)，通过所述阻隔热传递的器件减小从所述处理区(5)到入口(12)或出口(12’)的热传递，其中，所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)设计为横向于传输方向或者相对于传输方向倾斜地延伸的扁平体，其特征在于，所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)具有钻孔(22)，杆件或管件穿过所述钻孔，所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)固定在所述杆件或管件上。

2.按照权利要求1所述的设备，其特征在于，所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)是反射器，所述反射器具有扁平体的形状。

3.按照权利要求1所述的设备，其特征在于，所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)由板件制成并且具有狭缝(20)。

4.按照前述权利要求之一所述的设备，其特征在于，所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)设计为扁平体，所述扁平体具有一个横截面面积，该横截面面积填充与所述处理区(5)邻接的入口区域(5')或出口区域(5)的大于75％、大于80％或大于90％的空着的横截面面积，在所述入口区域或出口区域中布置有所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)。

5.按照权利要求3所述的设备，其特征在于，所述狭缝(20)和/或钻孔(22)构造为，使得所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)可移动地支承在所述杆件或管件上和/或被进气口的管件或出气口的管件穿过，和/或所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)由两个部分组成，在这两个部分之间留有用于使所述基底(2)穿过的间隙(19)。

6.按照权利要求1所述的设备，其特征在于，多个阻隔热传递的器件(14，15，16，17)沿传输方向依次布置和/或通过间隔器件彼此保持间距和/或具有彼此不同大小的反射面。

7.按照权利要求1所述的设备，其特征在于，一个或多个阻隔热传递的器件(14，15，16，17)是圆形构造的、一件式或多件式的扁平体，和/或一个或多个阻隔热传递的器件(14，15，16，17)是设计成十字形的扁平体，和/或一个或多个阻隔热传递的器件(14，15，16，17)由两个围绕顶点线(14’，15’)弯曲的扁平体构成，这种扁平体在顶点线(14’，15')上在形成用于使基底(2)穿过的间隙(19)的情况下彼此连接和/或两个扁平体通过连接条(24)彼此连接以便形成用于使基底(2)穿过的间隙(19)。

8.按照权利要求1所述的设备，其特征在于，在所述反应器壳体(1)内的直接与入口(12)邻接的入口区域(5')和/或直接与出口(12’)邻接的出口区域(5)中布置有用于导引基底(2)的多个导引元件，这些导引元件设计为沿传输方向延伸的杆件。

9.按照权利要求8所述的设备，其特征在于，这些导引元件直接与所述入口(12)或出口(12’)邻接地在所述反应器壳体(1)的空腔中延伸。

10.按照权利要求8所述的设备，其特征在于，所述导引元件紧挨着所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)的两个部分之间的间隙(19)布置，和/或所述杆件由阻隔热传递的器件(14，15，16，17)承载。