[实用新型]一种基于无蜡抛光工艺的半自动下片装置有效

专利信息
申请号: 201922213221.8 申请日: 2019-12-11
公开(公告)号: CN211277945U 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 李笑岩;张淳;李健乐;陈震宇;贾洁;王彦君;孙晨光 申请(专利权)人: 中环领先半导体材料有限公司;天津中环领先材料技术有限公司
主分类号: B24B41/00 分类号: B24B41/00;B24B41/06
代理公司: 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 代理人: 耿树志
地址: 214200 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 抛光 工艺 半自动 下片 装置
【权利要求书】:

1.一种基于无蜡抛光工艺的半自动下片装置,其特征在于:包括工装外壳和升降托架,所述工装外壳一侧开有竖直长条孔,所述长条孔外侧的工装外壳竖直方向上安装有电缸和直线导轨,所述升降托架的驱动端在电缸驱动下沿直线导轨上下移动,所述升降托架上表面前端安装有竖直设置的第一气缸,所述第一气缸上端安装在顶升板上,所述升降托架后端与顶升板后端转动连接,所述顶升板上表面左右两侧均连接竖直向上的插齿板,两个所述插齿板上表面均设有电钢滑台,两个所述电钢滑台均通过滑块共同连接一个插齿,所述顶升板通过第二气缸连接位于顶升板上侧的托盘,所述托盘上表面中心位置安装有中心圆盘,边缘安装有滚子,所述托盘前端安装有衔接坡道,所述插齿上表面放置陶瓷盘,所述中心圆盘位于陶瓷盘的正下方,所述衔接坡道边缘接触陶瓷盘边缘。

2.根据权利要求1所述的一种基于无蜡抛光工艺的半自动下片装置,其特征在于:所述滚子有多个,多个所述滚子到中心圆盘中心的距离相等,且都等于陶瓷盘的半径。

3.根据权利要求1所述的一种基于无蜡抛光工艺的半自动下片装置,其特征在于:所述第二气缸固定端连接在顶升板中心设置,所述第二气缸伸缩端连接托盘。

4.根据权利要求1所述的一种基于无蜡抛光工艺的半自动下片装置,其特征在于:所述升降托架上表面后端及顶升板下表面后端均连接有轴座,且所述轴座连接在同一轴上,使所述升降托架与顶升板后端转动连接。

5.根据权利要求1所述的一种基于无蜡抛光工艺的半自动下片装置,其特征在于:所述插齿呈U型。

6.根据权利要求1所述的一种基于无蜡抛光工艺的半自动下片装置,其特征在于:所述顶升板上表面安装有多个均匀分布的直线轴承,多个所述直线轴承均穿过托盘。

7.根据权利要求1所述的一种基于无蜡抛光工艺的半自动下片装置,其特征在于:所述升降托架的驱动端设有滑块和丝杆连接块,所述升降托架通过滑块卡接在直线导轨上,且通过丝杆连接块套接在电缸外侧,使升降托架沿直线导轨上下运动。

8.根据权利要求1所述的一种基于无蜡抛光工艺的半自动下片装置,其特征在于:所述陶瓷盘上放置抛光垫,所述抛光垫上设有多个抛光片凹槽,每个所述抛光片凹槽边缘位置均设有槽孔。

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