[实用新型]用于减轻离子源供气管路打火的装置与离子源氢气管路有效

专利信息
申请号: 201922203607.0 申请日: 2019-12-09
公开(公告)号: CN211128368U 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 侯世刚 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: H05H7/08 分类号: H05H7/08;H01J27/02
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 卓凡
地址: 10241*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 减轻 离子源 供气 管路 打火 装置 氢气
【说明书】:

本实用新型涉及一种用于减轻离子源供气管路打火的装置与离子源氢气管路,装置包括浮栅电极头及接地极座。浮栅电极头具有开设有气孔的腔壁,腔壁上设置有若干个等高阵列的浮栅电极柱;接地极座具有开设有气孔的接地面,经由管路绝缘壳结合接地极座与浮栅电极头,使浮栅电极柱容纳于由管路绝缘壳、接地面与腔壁构成的腔室中,且浮栅电极柱的悬浮端部与接地极座的接地面之间形成有促使打火的间隙距离,以预先释放掉气体管路中的集聚电荷。本实用新型具有针对离子源设备附加装置防止在后端管路打火放电的效果。

技术领域

本实用新型涉及离子源设备附加装置的技术领域,尤其是涉及一种用于减轻离子源供气管路打火的装置与离子源氢气管路。

背景技术

离子的应用对于人类生活越来越重要,在治疗、生物调理、镀膜、植入式膜层改质、静电消除等的应用中都需要对应类型的离子加速器用于发射例如质子等离子束,离子加速器的核心器件是离子源设备,以高电压引出粒子流。通常离子源设备中会集聚大量电荷产生打火现象,打火会沿着供气管路伤害离子源设备连接的附加装置甚至伤害到离子源设备连接的其它系统设备,造成附加装置或系统设备的损害并降低离子源的使用效率。

在一个具体的产业应用中,例如,治疗与生物调理中经常使用的离子源设备是使用负氢离子源,为了产生负氢粒子束流,需要给负氢离子源提供氢气和高压,负氢粒子相较于其他离子质量更轻且带负电,连接负氢离子源的氢气提供管路内便会更加容易地集聚大量电荷,有更大几率在氢气提供管路内产生打火现象进而损害离子源设备连接的附加装置或其它系统设备。

中国发明专利申请公布号CN106683970A公开了一种用于连续沉积绝缘材料的防打火直流离子源,包括离子光学组件,所述离子光学组件包括依次布置且栅孔彼此对准的屏栅、加速栅和防打火栅,屏栅上施加正电压,所述加速栅上施加负电压,防打火栅接地。其设置目的主要是为了防止打火现象会出现在离子源内部设备的栅网表面。

同申请人在中国发明专利授权公告号CN106422776B公开了一种用于同位素电磁分离器的离子源的聚焦电极,离子源的引出电极包括引出缝电极和接地电极,引出缝电极靠近弧放电室;聚焦电极设置在引出缝电极、接地电极之间,并包括支撑板和设置在支撑板上的缝口面板,缝口面板设置有用于引出离子束的引出缝,缝口面板采用高纯石墨制作,以减少暗电流与降低打火频率。其设置目的主要是为了防止打火现象会出现在离子源内部设备中同位素电磁分离器的离子源的聚焦电极。

发明内容

本实用新型的其中一目的是提供一种用于减轻离子源供气管路打火的装置,用以解决离子源供气管路内打火导致离子源设备的附加装置或其连接的系统设备损害并降低离子源的使用效率的问题。

本实用新型的另一目的是提供一种离子源氢气管路,用以实现释放供气管路内累积电荷即使供气管路内打火也不损害设备的问题。

本实用新型的其中一发明目的是通过以下技术方案得以实现的:

提出一种用于减轻离子源供气管路打火的装置,包括浮栅电极头及接地极座。所述浮栅电极头具有腔壁,所述腔壁开设有第一气孔,用以连通第一气体管路,所述浮栅电极头的所述腔壁上设置有若干个等高阵列的浮栅电极柱; 所述接地极座具有接地面,所述接地面开设有第二气孔,用以连通第二气体管路,并且所述接地极座与所述浮栅电极头之间设置有管路绝缘壳。其中,经由所述管路绝缘壳结合所述接地极座与所述浮栅电极头,使所述浮栅电极柱容纳于由所述管路绝缘壳、所述接地面与所述腔壁构成的腔室中,在所述浮栅电极柱的悬浮端部与所述接地极座的接地面之间形成有促使打火的间隙距离。

通过采用上述技术方案,利用管路与管路之间的腔室设计,在浮栅电极柱的悬浮端部与接地极座的接地面之间形成有促使打火的间隙距离,预先释放掉气体管路中的集聚电荷在所述装置的腔室中,改变打火位置在无损害或损害减轻的可控程度。

本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述第二气体管路为不直接电连接所述接地面的接地连接。

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