[实用新型]硅片制绒装置有效
| 申请号: | 201922145504.3 | 申请日: | 2019-12-04 |
| 公开(公告)号: | CN210897322U | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
| 发明(设计)人: | 叶晓亚;曹芳;邹帅;王栩生;邢国强 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0236 |
| 代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 胡彭年 |
| 地址: | 215000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 硅片 装置 | ||
本申请提供了一种硅片制绒装置,包括花篮、机械臂、第一反应槽与第二反应槽,所述机械臂或第一反应槽上设有限位杆。所述机械臂用以将所述花篮放入、提出第一反应槽,所述第一反应槽用以对放置在所述花篮内的硅片进行第一次表面处理,所述第二反应槽用以对放置在所述花篮内的硅片进行第二次表面处理,所述硅片进行第一次表面处理过程中,所述限位杆位于所述硅片上方,限制硅片移动。本申请硅片制绒装置既能有效避免硅片第一次表面处理过程中出现漂浮移动,又能避免限位杆在后续制程中影响硅片表面处理的均匀性,改善制绒效果与硅片外观。
技术领域
本申请涉及光伏生产设备领域,特别涉及一种硅片制绒装置。
背景技术
制绒是指在硅片表面形成既定的绒面结构,以降低硅片反射率,提高光生电流,采用酸、碱溶液对硅片进行湿法制绒仍是业界的主流工艺方法。黑硅制绒主要包括:预处理去除硅片表面损伤层、金属催化化学腐蚀法(metal catalyzed chemical etching,MCCE)制备黑硅、后清洗等步骤。预处理过程所采用的高温碱液与硅片反应极其剧烈,硅片表面会产生大量的气泡,需要在承载硅片的花篮上方设置压杆进行固定,防止硅片漂浮。但,后续MCCE制备黑硅过程中,硅片与槽内药液的反应较为平稳,无漂片隐患,反而会因为压杆在提蓝过程中带液,导致硅片上缘与压杆邻近的位置可能出现竖直方向的黑线;且压杆在长期使用过程中,由于卡齿缺损、脏污等,还会影响压杆下方硅片处的药液均匀性,导致硅片表面形成卡点印。
鉴于此,有必要提供一种新的硅片制绒装置。
实用新型内容
本申请的目的在于提供一种硅片制绒装置,能够有效改善硅片制绒效果,使得制绒后的硅片更为均匀美观。
为实现上述目的,本申请提供了一种硅片制绒装置,包括花篮、机械臂、第一反应槽与第二反应槽,所述机械臂用以将所述花篮放入、提出第一反应槽,所述第一反应槽用以对放置在所述花篮内的硅片进行第一次表面处理,所述第二反应槽用以对放置在所述花篮内的硅片进行第二次表面处理;所述硅片制绒装置还包括设置在所述机械臂或第一反应槽上的限位杆,所述硅片进行第一次表面处理过程中,所述限位杆位于所述硅片上方并用以限制硅片移动。
作为本申请的进一步改进,所述机械臂具有沿第一方向相对设置的两个承重架、固定在所述承重架下方的挂钩,所述限位杆设置在两个所述承重架上。
作为本申请的进一步改进,所述限位杆沿高度方向可活动设置在所述承重架上。
作为本申请的进一步改进,所述机械臂还包括设置在所述挂钩上的压力传感器。
作为本申请的进一步改进,所述硅片制绒装置还包括另一机械臂,所述另一机械臂用以将所述花篮放入、提出所述第二反应槽。
作为本申请的进一步改进,所述第一反应槽包括槽体与盖板,所述限位杆设置在所述盖板下方。
作为本申请的进一步改进,所述限位杆沿高度方向可活动设置在所述盖板上。
作为本申请的进一步改进,所述花篮具有沿第一方向相对设置的两个侧壁、连接在两个所述侧壁之间的支撑杆;所述侧壁的上缘向下凹陷形成有配合所述限位杆的卡槽,所述卡槽的底部不低于放置在花篮内的硅片的上缘。
作为本申请的进一步改进,所述第一反应槽用以盛放既定浓度、温度的碱溶液。
本申请的有益效果是:本申请硅片制绒装置既能有效避免硅片第一次表面处理过程中出现漂浮与位置移动,又能避免限位杆在第二次表面处理及其它后续制程中影响硅片表面的均匀性,改善制绒效果与硅片外观。
附图说明
图1是本申请硅片制绒装置的结构示意图;
图2是本申请硅片制绒装置一较佳实施例中机械臂与花篮的配合示意图;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





