[实用新型]微型流体致动器

权利要求书

1.一种微型流体致动器，其特征在于，包含：

一基板，具有至少一进气孔；

一腔室层，形成于该基板上，具有：

一第一腔室，连接至该至少一进气孔；

一共振薄层，具有一中心通孔，该中心通孔连通于该第一腔室；以及

一第二腔室，与该第一腔室对应，并通过该中心通孔与该第一腔室连通；

一承载层，形成于该腔室层上，具有：

一固定区，形成于该腔室层；

一振动区，位于该固定区中央，并与该第二腔室对应；

至少一连接部，连接于该固定区与该振动区之间；以及

至少一通孔，形成于该固定区、该振动区及该至少一连接部之间；以及

一压电组件，形成于该振动区。

2.如权利要求1所述的微型流体致动器，其特征在于，该腔室层包含由一保护层结构及多个金属层结构所形成。

3.如权利要求2所述的微型流体致动器，其特征在于，该腔室层包含一绝缘层、一多晶硅层，该绝缘层形成于该基板上，该多晶硅层形成于该绝缘层上，该保护层结构与该多个金属层结构形成于该多晶硅层上。

4.如权利要求3所述的微型流体致动器，其特征在于，该共振薄层由该多晶硅层所形成。

5.如权利要求2或3中任一项所述的微型流体致动器，其特征在于，该共振薄层由该保护层结构形成。

6.如权利要求2或3中任一项所述的微型流体致动器，其特征在于，该共振薄层由该保护层结构与该多个金属层结构其中之一形成。

7.如权利要求1所述的微型流体致动器，其特征在于，该腔室层包含一绝缘层、一第一多晶硅层、一第一保护层结构、一第二多晶硅层、一第二保护层结构及多个金属层，该绝缘层形成于该基板上，该第一多晶硅层形成于该绝缘层上，该第一保护层结构形成于该第一多晶硅层上，该第二多晶硅层形成于该第一保护层结构上，该第二保护层结构与该多个金属层形成于该第二多晶硅层上，其中，该共振薄层由该第一多晶硅层、该第一保护层结构及该第二多晶硅层所形成。

8.如权利要求1所述的微型流体致动器，其特征在于，该压电组件更包含了：

一下电极层；

一压电层，叠置于该下电极层；以及

一上电极层，叠置于该压电层，与该压电层电性连接。

9.如权利要求1所述的微型流体致动器，其特征在于，更包含一第一阀结构，该第一阀结构通过一第一干膜固定于该基板。

10.如权利要求1所述的微型流体致动器，其特征在于，更包含一第二阀结构，该第二阀结构通过一第二干膜固定于该固定区。