[实用新型]测量系统

说明书

本实用新型涉及一种测量系统(1)，其用于检测压力和/或密度，其至少包括一个过程接头(3C)、一个圆形波纹膜片(7)、一个测量机构(52)、一个壳体(2)和一个指示器(51)，其中，过程压力通过过程接头(3C)作用在圆形波纹膜片(7)上并且在测量机构(52)上的过程压力改变时，所述测量机构(52)将由此引起的圆形波纹膜片(7)的位移转化为指针(11)的转动运动，并且指示器(51)上的指针(11)在刻度(50)上指示施加在圆形波纹膜片(7)上的压力。根据本实用新型，所述圆形波纹膜片(7)具有小于28mm或小于23mm的直径，所述直径特别是21.4mm。

技术领域

本实用新型涉及一种用于检测压力和/或密度的测量系统。

背景技术

从现有技术一般已知用于检测压力和密度的测量系统。这种测量系统包括过程接头、圆形波纹膜片、测量机构、壳体和指示器，其中，过程压力通过过程接头作用到圆形波纹膜片上并且在测量机构上的过程压力改变时，所述测量机构将由此引起的圆形波纹膜片的位移转化为指针的转动运动。在指示器上，指针在刻度上指明施加在圆形波纹膜片上的压力。

实用新型内容

本实用新型的任务在于，提供一种相对于现有技术改进的用于检测压力和/或密度的测量系统。

用于检测压力和/或密度的测量系统包括至少一个过程接头、例如构造为圆形波纹膜片的膜片、测量机构、壳体和指示器。过程压力通过过程接头作用到圆形波纹膜片上并且在测量机构上的过程压力改变时，所述测量机构将由此引起的圆形波纹膜片的位移转化为指针的转动运动。在指示器上，指针在刻度上指示施加在圆形波纹膜片上的压力。

根据本实用新型，圆形波纹膜片的直径小于28mm或小于23mm、例如为21.4mm。

由此，可以特别小型地构造所述测量系统。

为了检测物理量、特别是压力和/或密度这类物理量，将要测量其物理性质的介质通过过程接头和连接件朝向测量系统的测量空间引导。所述测量空间以弹性的膜片单侧限制。在压力升高的情况下，膜片拱起并且将偏移传送至测量机构。在此，将过程压力或过程温度转化成可以在指示器中显示。

所述测量系统特别适合在介质必须免受污染的过程中应用。这种类型的过程的示例例如存在于制药领域、食品工业、半导体工业和平板显示器工业中。此外，还有很多其他的生产过程，在这些生产过程中希望过程介质保持纯净。此外，所述测量系统的构造能实现在空间有限的安装情况下的应用。

在过程中使用的介质可以是液体介质或气体介质。与物质状态无关，腐蚀性介质也是可能的。与是否是气体介质、腐蚀性气体介质、液体介质或腐蚀性液体介质无关，所述膜片不应被这些介质腐蚀并且不应通过物理或化学反应污染所述过程介质。因此，在测量系统的可能的设计方案中，膜片由合适的材料制成并且例如事后附加地清洁。所述材料也可以是优质钢、不锈钢亦或抗腐蚀的合金，例如

-抗腐蚀的镍基合金、如所谓的镍铬耐热合金，

-镍铜合金、例如具有65％镍含量、33％铜含量、2％的铁含量，也已知为蒙乃尔合金，和

-镍钼合金、例如所谓的哈氏合金。

作为清洁过程，事后可以将构件酸洗、打磨、滑动研磨，以及最终清洁。在此，在可能的设计方案中，所述酸洗也可以仅在外侧进行。

在测量系统的可能的设计方案中，所述测量系统包括连接件，所述连接件具有过程接头、仪器底座和管状的延长部。

测量系统在高纯气体工艺和食品工业中的应用也对于面向过程的表面提出特别要求。在冲洗管道时既不允许在测量系统的连接件上、也不允许在测量系统的膜片上余留剩余物。这在测量系统的另一种可能的设计方案中通过减小表面粗糙度实现，特别是通过事后对所述表面的抛光、电抛光和/或打磨来实现。