[实用新型]一种用于碳化硼冶炼的石墨去碳化硅杂质装置有效
| 申请号: | 201921108902.1 | 申请日: | 2019-07-16 |
| 公开(公告)号: | CN210385991U | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
| 发明(设计)人: | 王基峰;耿伟锋;王晓艳;王芳;陈英杰;吴迪;李龙 | 申请(专利权)人: | 郑州嵩山硼业科技有限公司 |
| 主分类号: | B02C4/02 | 分类号: | B02C4/02;B02C4/30;B02C4/40;B02C4/28;B02C23/16;B02C23/14;B07B9/00;B07B1/46;C01B32/215 |
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| 地址: | 452473 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 碳化 冶炼 石墨 碳化硅 杂质 装置 | ||
本实用新型涉及碳化硼生产机械领域,尤其涉及一种用于碳化硼冶炼的石墨去碳化硅杂质装置,包括箱体Ⅰ,箱体Ⅰ顶部设有进口Ⅰ,箱体Ⅰ底部设有出口Ⅰ,箱体Ⅰ内上部设置有破碎组件,下部设置有分选组件;破碎组件包括两个挤压辊,两个挤压辊水平对应设置于进口Ⅰ下方,箱体Ⅰ内壁上还设置有与挤压辊相接触的刮板;分选组件包括倾斜设置于箱体Ⅰ内下部的筛网Ⅰ,筛网Ⅰ的最低处为出口Ⅱ,筛网Ⅰ上还设置有打散组件,打散组件包括垂直设置的支撑架,支撑架上通过转轴设置有转动框,且转动框位于两个挤压辊之间的下方;所述箱体Ⅰ底部为斜坡设置,出口Ⅰ位于斜坡最低处;本实用新型结构简单,工作效率高,通过挤压破碎和筛分将石墨中的杂质挑选去除。
技术领域
本实用新型涉及碳化硼生产机械领域,尤其涉及一种用于碳化硼冶炼的石墨去碳化硅杂质装置。
背景技术
碳化硼,别名黑钻石,分子式为B4C,通常为灰黑色微粉。是已知最坚硬的三种材料之一(其他两种为金刚石、立方相氮化硼),用于坦克车的装甲、避弹衣和很多工业应用品中,目前,生产碳化硼的主要原料是硼酸、碳素以及石墨材料,其中的石墨材料主要是人造石墨。人造石墨是生产碳化硅的副产品,里面还残留有碳化硅杂质,在用于冶炼碳化硼时,需要去除杂质。通常石墨的强度低于碳化硅的强度,所以通过破碎筛选可以将石墨与碳化硅杂质区分开,然而目前却没有用于此种功能的设备,所以通过人工筛选效率低。
发明内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足, 避免石墨中含有碳化硅杂质,而提供了一种用于碳化硼冶炼的石墨去碳化硅杂质装置,本实用新型结构简单,工作效率高,通过挤压破碎和筛分将石墨中的杂质挑选去除。
本实用新型的目的是通过如下措施来实现的:一种用于碳化硼冶炼的石墨去碳化硅杂质装置,包括箱体Ⅰ,箱体Ⅰ顶部设有进口Ⅰ,所述箱体Ⅰ底部设有出口Ⅰ,所述箱体Ⅰ内上部设置有破碎组件,下部设置有分选组件;
所述破碎组件包括两个用于挤压物料的挤压辊,且两个挤压辊水平对应设置于进口Ⅰ下方,所述箱体Ⅰ内壁上还设置有与挤压辊相接触的刮板;
所述分选组件包括倾斜设置于箱体Ⅰ内下部的筛网Ⅰ,筛网Ⅰ的最低处为出口Ⅱ,所述筛网Ⅰ上还设置有打散组件,所述打散组件包括垂直设置的支撑架,支撑架上通过转轴设置有转动框,且转动框位于两个挤压辊之间的下方;所述箱体Ⅰ底部为斜坡设置,出口Ⅰ位于斜坡最低处。
优选的,所述出口Ⅱ处通过出料管连接有二次筛分装置,所述二次筛分装置包括箱体Ⅱ,箱体Ⅱ侧壁设有与出口Ⅱ连通的进口Ⅱ,箱体Ⅱ内进口Ⅱ下方设置有筛网Ⅱ,箱体Ⅱ上筛网Ⅱ的末端处设有出口Ⅲ,所述箱体Ⅱ底部设有出口Ⅳ,筛网Ⅱ上方还设有用于将物料拨于出口Ⅲ处的拨料组件。
优选的,所述拨料组件包括设于筛网Ⅱ上方的转动辊,转动辊上沿圆周方向均匀设置有拨料框板,转动辊的转动方向为沿进口Ⅱ至出口Ⅲ的方向。
优选的,所述转动框上还设置有镂空的条形板。
优选的,所述箱体Ⅰ内两个挤压辊之间上方还设置有于进口Ⅰ连通的进料斗,进料斗内设置有横向与竖向相交叉的横杆与竖杆。
优选的,所述刮板的自由端为弯折的锐角设置,且锐角处与挤压辊接触。
本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单,工作效率高,成本低,减少了人力物力,通过破碎组件将物料破碎后,又经过打散组件将物料打散于筛网Ⅰ上,进行筛分挑选,通过筛网Ⅰ的物料则为纯度较高的石墨,未通过的物料可以通过二次筛分装置进行再次筛分,将物料中掺杂的石墨给筛分出来,同时,拨料组件的相结合,可以加快二次筛分的速度,防止物料堵塞于筛网Ⅱ上。
附图说明
图1为本实用新型用于碳化硼冶炼的石墨去碳化硅杂质装置的结构示意图。
图2为本实用新型用于碳化硼冶炼的石墨去碳化硅杂质装置的刮板结构示意图。
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