[实用新型]一种注入机四极透镜底座有效
申请号: | 201921011803.1 | 申请日: | 2019-07-02 |
公开(公告)号: | CN210040119U | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
发明(设计)人: | 李春财;郭宝军 | 申请(专利权)人: | 吉林瑞能半导体有限公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;H01J37/10 |
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地址: | 132013 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 圆型凹槽 本实用新型 四极透镜 注入机 销钉 圆台型结构 顶部设置 高压打火 高压绝缘 维修成本 支撑底座 高能量 圆型孔 中空的 底座 改进 保证 生产 | ||
本实用新型是一种注入机四极透镜底座,结构包括本体和销钉,本体为中空的圆台型结构,其顶部设置有圆型凹槽,圆型凹槽的中心部位设有一圆型孔,销钉固定安装于圆型凹槽的底部,本实用新型通过改进注入机高压四极透镜支撑底座的结构,有效的解决了生产中进行高能量铝注入时,在高压绝缘部件容易产生高压打火问题,节省了维修成本,保证了工艺的稳定性。
技术领域
本实用新型涉及半导体制造领域,特别是一种注入机四极透镜底座。
背景技术
离子注入技术是当今半导体行业对半导体进行掺杂的最主要方法,离子注入机是此技术中的关键仪器,半导体制造设备离子注入机在生产中进行高能量铝注入时,在高压绝缘部件容易产生高压打火,影响工艺的稳定性,并经常把绝缘部件击穿,造成设备宕机,影响生产,并且绝缘备件更换和维修,成本很高。
通过设计注入机四极透镜的支撑底座的结构,阻止了铝离子注入源腔产生等离子时,生产的带电铝粉末和注入管中的杂质进入高压绝缘体内,散落到绝缘体表面,造成绝缘体绝缘性能下降,引起高压打火。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种注入机四极透镜底座,该装置可以有效地阻止铝注入工艺中,带电铝粉末从前端进入绝缘管,造成绝缘效果降低,导致高压打火,损坏绝缘管,并且提高了工艺制程的离子束稳定性,保证了产品质量。
为达到以上目的,提供以下技术方案:
一种注入机四极透镜底座,其特征在于,结构包括本体和销钉,所述本体为中空的圆台型结构,所述本体的顶部设置有圆型凹槽,所述圆型凹槽的中心部位设有一圆型孔,所述销钉固定安装于圆型凹槽的底部,所述圆型凹槽上设置有两个螺纹孔一和一个螺纹孔二,所述两个螺纹孔一的尺寸相同,所述两个螺纹孔一的底部各设有一个圆形的凸台,所述本体的外侧面下部设置有六处向外凸起的长方块。
优选地,所述圆型孔的中心与两个螺纹孔一中心连线的中点重合,所述螺纹孔二中心和圆型孔中心的连线与两个螺纹孔一中心的连线成45°夹角。
优选地,以所述两个螺纹孔一的中心连线为对称轴,每三个长方块位于对称轴的一侧,且同侧相邻的两个长方块与圆型孔中心的连线之间的夹角为45°。
优选地,所述两个螺纹孔一的中心点与本体底部的中心点三点连线构成一平面,位于对称轴左侧且垂直于此平面的长方块底部设有一个盲孔,位于对称轴右侧且垂直于此平面的长方块底部开设有一定宽度与深度的凹槽,其余四个长方块底部,各设有一定深度的螺纹孔三。
优选地,所述盲孔与各个螺纹孔三的中心均在同一圆周上。
优选地,所述本体的内侧面与外侧面均为圆锥面,且锥度相同,锥角均为2.6°。
优选地,所述销钉固定安装于圆型凹槽的底部,且销钉突出一定的高度。
本实用新型的有益效果为:
1.本实用新型通过将内外表面设置为密闭空间,有效的阻止带电铝粉末从底座处进入绝缘管,造成绝缘效果降低,导致高压打火,损坏绝缘管。
2.本实用新型材质采用铝合金,质量轻,易于安装,而且在工艺制程中可以迅速散热,保证了的质量稳定性。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的主视图;
图3为本实用新型的A-A剖视图;
图4为本实用新型的B-B剖视图;
图5为本实用新型的C向视图;
图6为本实用新型实施例示意图;
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