[实用新型]一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备

权利要求书

1.一种用于化学机械抛光的承载头，其特征在于，包括连轴盘、平衡架、承载盘、柔性膜、环状压盘，平衡架的中轴部可滑动地设置于连轴盘的中心通孔内并可以通过所述平衡架的底盘部及翼缘部带动承载盘相对于连轴盘上下移动，所述柔性膜的一部分被环状压盘夹紧至承载盘下部以形成密封腔室，所述平衡架下表面的中心区域具有沿竖直方向向下延伸的下凸结构。

2.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述下凸结构沿竖直方向向下延伸至不低于所述环状压盘的下表面。

3.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述下凸结构为圆锥台。

4.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述下凸结构与所述平衡架一体形成。

5.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述下凸结构形成为独立构件并固定结合至所述平衡架底部。

6.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述下凸结构由非金属材料形成。

7.如权利要求1至6中任一项所述的承载头，其特征在于，所述平衡架底部的下表面设置有消波层。

8.如权利要求5所述的承载头，其特征在于，所述下凸结构通过粘合剂固定结合至所述平衡架底部。

9.如权利要求8所述的承载头，其特征在于，所述粘合剂中含有消波材料。

10.一种化学机械抛光设备，其特征在于，所述化学机械抛光设备包括如权利要求1至9中任一项所述的承载头。