[实用新型]一种具有均匀喷涂功能的真空镀膜设备

说明书

本实用新型公开一种具有均匀喷涂功能的真空镀膜设备，包括箱体，所述箱体下端的外表面上固定设置有若干根支撑柱，所述支撑柱的下端固定设置有固定板，所述固定板上端面的一侧安装有电源箱，所述电源箱的输出端电性连接有真空泵，所述真空泵安装在固定板的上端面上，所述真空泵的进气端通过导管与箱体的下端面连接，所述箱体内部下端的两侧均通过开设滑槽滑动连接有连接杆，所述连接杆在滑槽内部一端的下端面上设置有第一弹簧，所述第一弹簧的下端设置在箱体上，所述连接杆的另一端设置有蒸发皿。本实用新型结构简单，设计合理，能够对被镀膜设备进行均匀喷涂，提高镀膜效果，同时能够快速的对多个面进行镀膜，提高镀膜速率。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，具体为一种具有均匀喷涂功能的真空镀膜设备。

背景技术

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜，虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜，真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

传统装置有如下不足：

1、镀膜材料是通过自然的挥发作用力或者相应的压力镀在被镀装置上，难以保证镀膜材料均匀的喷涂，在压力较大的地方镀膜层较厚，降低了镀膜效果；

2、同时对于需要多面进行镀膜的装置而言，需要工作人员多次操作，增加了工作人员的负担，同时降低了镀膜效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种具有均匀喷涂功能的真空镀膜设备，以解决上述背景技术中提出的镀膜材料是通过自然的挥发作用力或者相应的压力镀在被镀装置上，难以保证镀膜材料均匀的喷涂，在压力较大的地方镀膜层较厚，降低了镀膜效果的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种具有均匀喷涂功能的真空镀膜设备，包括箱体，所述箱体下端的外表面上固定设置有若干根支撑柱，所述支撑柱的下端固定设置有固定板，所述固定板上端面的一侧安装有电源箱，所述电源箱的输出端电性连接有真空泵，所述真空泵安装在固定板的上端面上，所述真空泵的进气端通过导管与箱体的下端面连接，所述箱体内部下端的两侧均通过开设滑槽滑动连接有连接杆，所述连接杆在滑槽内部一端的下端面上设置有第一弹簧，所述第一弹簧的下端设置在箱体上，所述连接杆的另一端设置有蒸发皿，所述蒸发皿的下端设置有安装框，所述安装框的上端面上安装有电热片，所述安装框的下端面上安装有振动电机，所述电源箱的输出端分别与电热片和振动电机电性连接，所述箱体内部的上端固定设置有支撑板，所述支撑板上开设有开口设置有固定框，所述固定框的两侧均设置有转轴，所述转轴的另一端活动设置在支撑板上，所述箱体内部上端面的一侧安装有电机，所述电源箱的输出端与电机的输入端电性连接，所述电机的输出端与转轴连接，所述固定框的两侧均通过开设螺纹孔螺纹连接有调节杆，所述调节杆的另一端活动设置有夹板，所述箱体的一侧活动设置有箱门。

优选的，所述箱体内部下端的两侧均设置有倾斜块。

优选的，所述固定板下端的两侧均设置有固定杆，所述固定杆的另一端设置在支撑柱上。

优选的，所述安装框的下端面上在振动电机的两侧均设置有第二弹簧。

优选的，所述夹板靠近调节杆一侧侧面的两侧均设置有第三弹簧，所述第三弹簧的另一端设置在固定框上。

优选的，所述箱门与箱体相邻的一侧均设置有塑料磁条，所述箱门上通过开设窗口设置有玻璃。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型通过在箱体内部下端的两侧均通过开设滑槽滑动连接有连接杆，连接杆的另一端设置有蒸发皿，蒸发皿的下端设置有安装框，安装框的上端面上安装有电热片，安装框的下端面上安装有振动电机，通过振动电机产生高度的振动作用力，加快挥发粒子的运动速率，使镀膜材料的粒子能够在有足够动力的情况下均匀扩散，保证镀膜粒子均匀的喷涂，提高喷涂效果；