[实用新型]OLED蒸镀用精密金属遮罩

说明书

一种OLED蒸镀用精密金属遮罩，其特征在于，金属基材上均匀设置结构相同的凹陷区，凹陷区是侧面为弧形的圆台体空腔，圆台体空腔的大端面开在金属基材的第一主表面上，圆台体空腔的小端面在金属基材内；孔洞的外端面开在金属基材的第二主表面上，孔洞的内端面与圆台体空腔的小端面为共同端面；圆台体空腔大端面、小端面与金属基材纵向截面相交成两端点，该两端点的连线与金属基材第一主表面、第二主表面成45‑65度蒸镀角。本实用新型是透过蚀刻激光复合制作法所制作出来的，因其第二主表面与孔洞开口的侧边壁面接近垂直无斜坡，其交界处无尖点，结构相对稳定，且孔洞大小的精度达到≤±2um，蒸镀角达到45‑65度。

技术领域

本实用新型涉一种OLED蒸镀用精密金属遮罩。

背景技术

精密金属遮罩主要用于OLED蒸镀制程中，RGB三种颜色的蒸镀材料藉由通过精密金属遮罩上的孔洞，准确的将位置形状大小定义在玻璃基板上。精密金属遮罩的制作法大致有三种，分别为电铸制作法、激光制作法、蚀刻制作法，其中电铸制作法受限于低热膨胀系数材料而目前仍处于研发阶段；激光制作法则是利用激光高能量的原理，直接在金属基材上面轰击刻画出所有的孔洞（如图2），藉由激光瞬间高能量及稳定的特性，所制作出的孔洞大小D1精度能达到≤±2um，但至今仍处于研发阶段，其主要存在蒸镀角θ接近90度的问题，蒸镀角θ接近90度，在蒸镀过程中容易因为堵孔导致蒸镀不良，且在大版面玻璃的蒸镀过程也会因为蒸镀角过高导致镀膜层厚度不均匀。

目前主流的精密金属遮罩制作法为蚀刻制作法（如图3），透过曝光显影制程，在金属基材1的第一主表面12及第二主表面11制作出第一镂空区及第二镂空区，接着利用蚀刻制程，首先蚀刻出第一凹陷区及第二凹陷区后，再由第二凹陷区进行第二次蚀刻制作出孔洞开口，透过蚀刻制作法所形成的孔洞大小D1，其精度难以达到激光制作法的精度，主要是因为透过蚀刻制作法所形成的第一主表面与孔洞开口的侧边壁面会有斜坡而形成个尖点，尖点的稳定性不佳，容易因蚀刻时间的长短误差导致孔洞大小D1的精度变差，因此其精度大致为±3um左右，但透过蚀刻制作法所制作出来的精密金属遮罩有着较低角度的蒸镀角θ结构，大致为40度~60度左右，能符合目前蒸镀制程所用。

发明内容

本实用新型的目的就是提供一种孔洞精度高、蒸镀角为45-65度的OLED蒸镀用精密金属遮罩。

本实用新型的OLED蒸镀用精密金属遮罩，包括金属基材，其特征在于，金属基材上均匀设置结构相同的凹陷区，凹陷区是侧面为弧形的圆台体空腔，圆台体空腔的大端面开在金属基材的第一主表面上，圆台体空腔的小端面在金属基材内；孔洞为与圆台体空腔同轴的圆柱体空腔，孔洞的外端面开在金属基材的第二主表面上，孔洞的内端面与圆台体空腔的小端面为共同端面；圆台体空腔大端面、小端面与金属基材纵向截面相交成两端点，该两端点的连线与金属基材第一主表面、第二主表面成45-65度蒸镀角。

本实用新型的OLED蒸镀用精密金属遮罩，是透过蚀刻激光复合制作法所制作出来的，先利用单面的曝光显影制程于第一主表面制作出镂空区，接着利用单面蚀刻制程在漏空区蚀刻出弧形圆台体空腔的凹陷区，最后利用激光制程在凹陷区进行轰击刻画制作出孔洞开口。该结构的精密金属遮罩，因其第二主表面与孔洞开口的侧边壁面接近垂直无斜坡，其交界处并无蚀刻制作法一样的尖点，其结构相对稳定，不易受到蚀刻时间长短误差的影响，能将孔洞大小D1的精度达到≤±2um，且蒸镀角θ也能达到45-65度。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为激光制作法做出来的大角度结构示意图，处于研发阶段；

图3为精密金属遮罩另一现有结构示意图；

1、金属基材，2、第一主表面，3、第二主表面，D1、孔洞，θ、蒸镀角。

具体实施方式

一种OLED蒸镀用精密金属遮罩，包括金属基材1，其特征在于，金属基材1上均匀设置结构相同的凹陷区，凹陷区是侧面为弧形的圆台体空腔，圆台体空腔的大端面开在金属基材的第一主表面2上，圆台体空腔的小端面在金属基材1内；孔洞D1为与圆台体空腔同轴的圆柱体空腔，孔洞D1的外端面开在金属基材1的第二主表面3上，孔洞D1的内端面与圆台体空腔的小端面为共同端面；圆台体空腔大端面、小端面与金属基材1纵向截面相交成两端点，该两端点的连线与金属基材第一主表面2、第二主表面3成45-65度蒸镀角。