[实用新型]气压式研磨液供给系统

说明书

本实用新型涉及机械研磨领域，具体而言，涉及一种气压式研磨液供给系统，其包括支撑架、喷洒装置、传动装置以及供液装置；喷洒装置包括存储箱、安装在存储箱上部的进液管以及安装在存储箱底部的若干喷嘴；传动装置包括驱动电机、与驱动电机连接的主动齿轮以及与主动齿轮配合的从动齿轮供液装置包括储液罐、端部伸入到储液罐内部的输液管以及与储液罐连通的气管；该新型所涉及的气压式研磨液供给系统解决了现有技术中供液零部件磨损严重，研磨液的液量不足且渗漏严重，研磨液喷洒范围有限，喷洒不均匀的问题。

技术领域

本实用新型涉及机械研磨领域，具体而言，涉及一种气压式研磨液供给系统。

背景技术

目前在蓝宝石的上游加工领域，需要对蓝宝石晶片进行精密单面研磨，为控制蓝宝石晶片表面应力、平坦度、粗糙度，需对加工工艺严格控制，其中一项工艺过程是对研磨液流量进行严格控制。目前研磨液供给的主要控制方法是采用蠕动泵驱动四个泵头，将滴液管均匀分布在研磨盘表面，研磨液滴落至盘面，通过调节蠕动泵转速改变滴液量；此种供给方式的缺点是：由于研磨液内含有高硬度研磨剂，在蠕动泵高速运行摩擦挤压蠕动管打液的过程中，供液系统零部件磨损消耗严重，造成研磨液泄露，研磨液渗入泵头轴承内，使泵头损坏，零部件更换频繁，且现有的喷洒装置多是单头喷洒，喷洒的范围有限，喷洒液不均匀，造成在研磨的过程中有些地方研磨不充分，且不能满足尺寸较大或者是一组多个蓝宝石晶片的同步研磨。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种气压式研磨液供给系统，以解决现有技术中供液零部件磨损严重，研磨液的液量不足且渗漏严重，研磨液喷洒范围有限，喷洒不均匀的问题。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下的技术方案：

一种气压式研磨液供给系统，其包括支撑架、喷洒装置、传动装置以及供液装置；喷洒装置以及传动装置均固定在支撑架上；

喷洒装置与支撑架可转动连接，喷洒装置包括存储箱、安装在存储箱上部的进液管以及安装在存储箱底部的若干喷嘴，存储箱中空，进液管以及喷嘴均与存储箱连通；

传动装置包括驱动电机、与驱动电机连接的主动齿轮以及与主动齿轮配合的从动齿轮，从动齿轮同轴固定在存储箱的外围；

供液装置包括储液罐、端部伸入到储液罐内部的输液管以及与储液罐连通的气管，输液管的另一端与进液管可转动连接。

进一步的，气管上安装有减压阀、数显压力表、电磁阀以及安全阀。

进一步的，喷嘴包括喷管和盖帽，喷管底面开有若干出液口，出液口呈放射状排列，盖帽上带有与出液口的尺寸和排列相对应的通孔。

进一步的，喷管与盖帽螺纹连接。

进一步的，输液管的进液端高度低于气管的出气口。

本实用新型具有以下有益效果：

(1)该气压式研磨液供给系统采用气压式供液，经过气管将气体充入储液罐中，在压力的作用下，储液罐中的研磨液经过输液管被输送到存储箱中，采用气压式供液可以避免蠕动泵工作中的部件损耗，通过控制气管中气体的输入来控制研磨液的输出速度以及输出量，减少部件损坏、研磨液渗漏等的问题；

(2)该气压式研磨液供给系统的喷洒装置在传动装置的驱动下可以旋转喷洒，使得研磨液喷洒均匀，有利于晶片表面的研磨；

(3)喷洒装置上安装的喷嘴可以通过旋转盖帽打开或者关闭喷嘴，按照需求可以控制研磨液的喷洒情况，喷洒的范围以及研磨液的量可控性增强。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图；

图2是传动装置以及喷洒装置连接结构示意图；

图3是喷嘴结构示意图；