[实用新型]一种腔体清洁装置

说明书

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种腔体清洁装置，用于清洁连接有真空分子泵的腔体，真空分子泵通过一真空阀门与腔体连接，包括：一清洁夹具，设置于腔体的真空阀门内，用于覆盖真空阀门与连接真空分子泵的管道口；一连接件，固定于真空阀门的外接端口；一吸尘器，与连接件连接。本实用新型技术方案的有益效果在于：通过在真空阀门内设置清洁夹具，以防在对腔体进行清洁作业时颗粒掉入真空分子泵内而导致真空分子泵故障，进一步延长真空分子泵的使用寿命；并且，该装置可以有效地提高清洁的效果，以防因颗粒残留在腔体内而导致晶圆缺陷，进一步提高产品的良率。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种腔体清洁装置。

背景技术

在半导体的制造过程中，尤其是在等离子体刻蚀工艺中，腔体(chamber)内常会产生大量的颗粒(particle)，若颗粒掉落到晶圆上势必会导致晶圆损伤，进一步地影响晶圆的良率。半导体设备在长时间使用后会带来部件消耗，因此，需要重新对腔体进行清洁。

现有的清洁方式是先使用刮刀将颗粒清除，然后使用吸尘器将颗粒吸出，最后再使用蘸取异丙醇(IPA)的无尘布对腔体的死角以及细小颗粒进行清洁，待腔体清除干净后，打开真空分子泵(turbo pump)上的真空阀门(VAT)，将真空阀门的托盘取出，然后进行对VAT进行清洁作业。将以上全部作业都完成后，还需要对腔体进行核实，方可进行腔体恢复作业。

如图1所示，由于腔体2内的空间有限，工作人员在清洁的过程中无法触及静电吸盘3(ESC)下方和真空阀门4(VAT)之间的位置，使腔体里存在清洁死角，且每次使用化学品清洁腔体时，颗粒可能与化学品之间产生吸附力而依附在腔体的死角，无法清理干净。待清洁作业结束后，伴随腔体内温度恢复，残留的颗粒物可能导致静电吸盘3无法吸附晶圆。并且，由于在清洁腔体时真空阀门4处于关闭状态，因此，真空阀门4的托盘会存在大量处理不到的颗粒，当进行VAT清洁作业时，在取出VAT的托盘时，存在颗粒掉入真空分子泵5的风险，若处理不当，轻则引起真空分子泵故障，重则影响真空分子泵的使用寿命。

发明内容

针对现有技术中存在的上述问题，现提供一种腔体清洁装置。

具体技术方案如下：

本实用新型包括一种腔体清洁装置，用于清洁连接有真空分子泵的腔体，所述真空分子泵通过一真空阀门与所述腔体连接，包括：

一清洁夹具，设置于所述腔体的真空阀门内，用于覆盖所述真空阀门与连接所述真空分子泵的管道口；

一连接件，固定于所述真空阀门的外接端口；

一吸尘器，与所述连接件连接。

优选的，所述清洁夹具为圆盘形夹具。

优选的，所述清洁夹具包括一铁质内芯，所述铁质内芯外包裹橡胶层。

优选的，所述连接件包括一固定板，所述固定板通过复数个螺钉固定于所述真空阀门的外接端口。

优选的，所述连接件还包括一吸尘腔，所述吸尘腔包括广口端与窄口端；

所述吸尘腔的广口端与所述固定板连接；

所述吸尘腔的窄口端与所述吸尘器连接。

优选的，所述吸尘器的广口端的尺寸与所述真空阀门的外接端口的尺寸适配。

优选的，所述清洁夹具的尺寸与所述真空阀门的尺寸适配。

优选的，所述清洁夹具的直径为25cm。

优选的，所述吸尘腔的广口端的宽度为27cm，高度为15cm；

所述吸尘腔的窄口端的直径为8.5cm。

优选的，所述连接件的材质为PVC塑胶。