[发明专利]低黏、高铝玻璃及其制备方法与应用

说明书

本发明公开了一种低黏、高铝玻璃及其制备方法与应用，该玻璃以氧化物为基准，按重量份计，包括：58‑68份SiO₂、17‑20份Al₂O₃、8‑15份Na₂O、0.5‑3份ZrO、1‑6份Li₂O和0.5‑3份B₂O₃。制备时，1）按配比称取成分，混合均匀，在1520‑1620℃保温5‑10h，进行熔化得到玻璃液；2）将熔制好的玻璃液降温至1150‑1350℃，进行成型，成型后进行退火处理，得到低黏度、超高铝的玻璃。该玻璃具有较高的强度和表面硬度，耐磨、耐刮划和耐冲击性能。

技术领域

本发明玻璃制备技术领域，具体涉及一种低黏、高铝玻璃及其制备方法与应用。

背景技术

手机盖板是电容式触摸屏最外层起保护作用的一层玻璃材质，由于直接与外界接触，除了表面光洁度、厚度等参数要求外，高硬度、抗压、耐刮、耐冲击等属性更决定了盖板品质的高低。而高铝玻璃盖板相对于其它低铝的盖板如普通钠钙玻璃、中低铝硅酸盐玻璃在这些重要参数上优势明显，因此，逐渐成为各触控技术的主流方案。

一般来说，触控模组是由盖板、传感器模块、液晶面板三部分进行贴合而成。目前电容触摸屏解决方案仍是多种技术并存，薄膜和玻璃两大阵营分食触控市场，但是无论薄膜方案(GF、GF2等)还是玻璃(GG、OGS等)方案，玻璃盖板都是重要的组成部件。盖板玻璃的强度、耐磨、耐刮擦、耐冲击要求较高，既要保证盖板的超薄度还要考虑其强度，这对于浮法技术来说是一个技术难题。

发明内容

本发明提供一种低黏、高铝玻璃及其制备方法与应用，该玻璃具有较高的强度和表面硬度，耐磨、耐刮划和耐冲击性能。

本发明的技术方案是，低黏度、超高铝的玻璃，以氧化物为基准，按重量份计，包括：58-68份SiO₂、17-20份Al₂O₃、8-15份Na₂O、0.5-3份ZrO、1-6份Li2O和0.5-3份B₂O₃。

进一步地，该玻璃还包括0.2-3份K2O和0.3-2份MgO。

进一步地，该玻璃还包括0-1份CeO₂、0-0.03份CoO及0-0.03份Se。

进一步地，该玻璃还包括0.0005-0.03份Nd₂O₃。

进一步地，该玻璃包含60-68份SiO₂、18-20份Al₂O₃、8-13份Na₂O、0.2-3份K2O、0.3-2份MgO、4-6份Li₂O、0.5-3份ZrO、0.5-3份B₂O₃、0.0005-0.003份CeO₂、0.0005-0.003份CoO和0.0005-0.003份Se。

进一步地，Na₂O/Al₂O₃的摩尔比为0.75-0.9。可以有效提升离子交换深度及密度。

进一步地，Na₂O+K₂O+Li₂O之和占总成分的比例≤14wt％。可以进一步提升离子交换深度及密度。