[发明专利]低指数双面抗静电硅胶保护膜及其制备工艺

权利要求书

1.低指数双面抗静电硅胶保护膜，其包括基材，其特征在于：所述基材两侧面都涂覆有抗静电图层，其中一所述抗静电图层外侧面涂覆有粘合剂图层，所述粘合剂图层外侧粘贴有离型膜，所述粘合剂图层内添加有改善导电性能的纳米碳管，以使得所述粘合剂图层的抗静电指数小于10⁹。

2.根据权利要求1所述的低指数双面抗静电硅胶保护膜，其特征在于：所述粘合剂图层外侧印有网格形花纹。

3.根据权利要求1所述的低指数双面抗静电硅胶保护膜，其特征在于：所述粘合剂图层由有机硅胶涂覆制成。

4.根据权利要求1所述的低指数双面抗静电硅胶保护膜，其特征在于：所述粘合剂图层的抗静电指数在10⁶～10⁸之间。

5.根据权利要求1所述的低指数双面抗静电硅胶保护膜，其特征在于：未涂覆所述粘合剂图层一侧的所述抗静电图层的抗静电指数在10⁶～10⁸之间。

6.一种低指数双面抗静电硅胶保护膜制备工艺，其用于制备权利要求1至5其中之一所述的低指数双面抗静电硅胶保护膜，其特征在于，其包括以下步骤：

1）在基材两侧涂覆抗静电图层，并收卷，放入涂布机；

2）配料，按设定的比例将纳米碳管和粘合剂混合，搅拌5-10分钟后，得到抗静电粘合剂，所述抗静电粘合剂经过3um的滤芯进行过滤，并经过300目过滤盘过滤后导入到涂布头中；

3）涂胶，所述基材经过所述涂布头，在一侧的所述抗静电图层涂布所述抗静电粘合剂以获得所述粘合剂图层；

4）经过烘箱进行烘干，烘干时所述粘合剂图层朝上；

5）印花，通过网纹辊对所述粘合剂图层进行印花，以在所述粘合剂图层表面形成网纹形花纹；

6）收卷。

7.根据权利要求6所述的制备工艺，其特征在于：所述步骤1）中包括，对所述抗静电图层进行抗静电值检测，选择抗静电值较低的一侧所述抗静电图层进行步骤3）的涂胶处理。

8.根据权利要求6所述的制备工艺，其特征在于：所述步骤2）中，将所述抗静电粘合剂倒入到料槽中，使用蠕动泵给所述涂布头供料，供料过程中，持续使用超声波搅拌器对所述抗静电粘合剂进行搅拌。

9.根据权利要求8所述的制备工艺，其特征在于：所述步骤2）中使用110目、180目和300目过滤盘叠加后，将所述抗静电粘合剂倒入到料槽。