[发明专利]显示模组、电子设备及显示模组的制备方法有效
申请号: | 201911369331.1 | 申请日: | 2019-12-26 |
公开(公告)号: | CN110989240B | 公开(公告)日: | 2022-10-28 |
发明(设计)人: | 李征;张霄宁 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1333;G02B1/11;H01L51/52 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 娜拉 |
地址: | 200120 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 模组 电子设备 制备 方法 | ||
1.一种显示模组,其特征在于,包括:
显示面板,具有显示区和围绕所述显示区的非显示区;
盖板,位于所述显示面板的出光侧;
遮光层,在所述非显示区设置,且在所述盖板与所述显示面板之间;
第一增反膜,覆盖所述遮光层朝向所述显示区的内侧表面;
光学胶层,设置于所述显示面板与所述盖板之间,粘接所述显示面板与所述盖板;
在平行于所述盖板朝向所述显示面板的表面且由所述遮光层朝向所述显示区的第一方向上,所述第一增反膜包括至少一组光学膜层组,各所述光学膜层组包括所述第一方向上层叠设置的两个以上光学膜层,且相邻所述光学膜层的折射率不相等。
2.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一增反膜的折射率大于所述遮光层的折射率及所述光学胶层的折射率。
3.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一增反膜的厚度范围为5nm~1000nm;
所述第一增反膜中的各所述光学膜层的厚度范围为5nm~150nm。
4.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述光学膜层组中所述光学膜层的层数为奇数,各所述光学膜层组中所述光学膜层以折射率由所述光学膜层组的中间至两边以高低折射率膜层交替的方式排布。
5.根据权利要求4所述的显示模组,其特征在于,各所述光学膜层组中中间所述光学膜层以外的所述光学膜层以中间所述光学膜层为中心对称分布。
6.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述光学膜层组中所述光学膜层的层数为偶数,所述光学膜层组中两种折射率的所述光学膜层交替分布。
7.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,各所述光学膜层组中相邻两层所述光学膜层中的一层所述光学膜层的材料包括硅、二氧化钛、五氧化二铌、五氧化锆、五氧化二钽中的任意一种,另一层所述光学膜层的材料包括二氧化硅、氮化硅、一氧化硅中的任意一种。
8.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一增反膜的反射率大于等于20%。
9.根据权利要求1-8任一项所述的显示模组,其特征在于,所述显示模组还包括:
第二增反膜,位于所述遮光层背向所述盖板的一侧,所述第二增反膜和所述第一增反膜为一体结构。
10.一种电子设备,其特征在于,包括权利要求1-9任一项所述的显示模组。
11.一种显示模组的制备方法,其特征在于,包括:
提供母盖板;
在所述母盖板上形成图案化的遮光层,所述图案化的遮光层具有由各遮光单元围合形成的镂空区域;
在各所述遮光单元朝向所述镂空区域的内侧表面上形成第一增反膜;
对形成有所述遮光层的所述母盖板进行切割处理,得到多个单元块,各所述单元块上具有一个所述遮光单元及由所述遮光单元围合形成的所述镂空区域;
提供显示面板;
利用光学胶层将所述单元块设置有所述遮光层及第一增反膜的一侧与所述显示面板的出光侧贴合,得到显示模组;
所述在各所述遮光单元朝向所述镂空区域的内侧表面上形成第一增反膜,包括:
在各所述遮光单元朝向所述镂空区域的内侧表面上依次形成多个光学膜层,得到所述第一增反膜;其中,相邻所述光学膜层的折射率不相等。
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