[发明专利]一种蓝宝石刻蚀方法

权利要求书

1.一种蓝宝石刻蚀方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤：

S1、利用光刻技术和压印技术制作一次掩模图形，通过一次干法刻蚀蓝宝石，得到初级结构的蓝宝石衬底图形；

S2、利用光刻技术和压印技术再制作一次掩模图形，再通过一次干法刻蚀得到的初级结构的蓝宝石衬底图形，得到二级结构的蓝宝石衬底图形；

反复执行所述步骤S1和步骤S2，制作多种不规则蓝宝石图形。

2.根据权利要求1所述的蓝宝石刻蚀方法，其特征在于，所述利用光刻技术和压印技术制作一次掩模图形，通过一次干法刻蚀蓝宝石，得到初级结构的蓝宝石衬底图形的步骤具体包括下述步骤：

首先对选取的蓝宝石衬底进行清洗；

对清洗后的蓝宝石衬底执行匀胶、光刻以及ICP刻蚀动作。

3.根据权利要求2所述的蓝宝石刻蚀方法，其特征在于，一次干法刻蚀过程中，蓝宝石刻蚀高度为0.1-1.5μm。

4.根据权利要求2所述的蓝宝石刻蚀方法，其特征在于，所述利用光刻技术和压印技术再制作一次掩模图形，再通过一次干法刻蚀得到的初级结构的蓝宝石衬底图形，得到二级结构的蓝宝石衬底图形的步骤具体包括下述步骤：

将一次刻蚀得到的初级结构的蓝宝石衬底图形，再次执行匀胶、光刻、显影动作；

利用干法刻蚀中的刻蚀气体，对初级结构的蓝宝石衬底图形进行刻蚀，得到二级结构的蓝宝石衬底图形。

5.根据权利要求4所述的蓝宝石刻蚀方法，其特征在于，所述干法刻蚀中的刻蚀气体包括BCl₃、CHF₃、He和Ar的任何一种或组合。

6.根据权利要求1所述的蓝宝石刻蚀方法，其特征在于，所述光刻的步骤通过压印技术实现，具体包括下述步骤：

对匀胶膜厚为0.4-1.5μm以内的产品压印，控制进行1.0-5.0μm周期图形的转移，再利用干法刻蚀制备。