[发明专利]一种耐电晕聚酰亚胺薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）在0~40℃下，将第一无机填料、第二无机填料以及偶联剂均匀分散于溶剂中，获得纳米浆料；

（2）向纳米浆料中加入脱水剂和催化剂，搅拌混合均匀，得到纳米杂化溶液；

（3）在惰性气氛保护下，将二胺溶解于溶剂中，然后加入二酐进行缩聚反应，得到聚酰胺酸树脂，得到聚酰胺酸树脂；

（4）将步骤（2）后的纳米杂化溶液和步骤（3）后的聚酰胺酸树脂混合均匀，得到前驱体树脂，将前驱体树脂经流延、拉伸、高温热定型，得到耐电晕聚酰亚胺薄膜；

第一无机填料的粒径为15~200nm，质量为无机填料总质量的95%~99.9%；第二无机填料的粒径为500~1600nm，质量为无机填料总质量的0.1%~5%。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一无机填料和第二无机填料均为氧化铝、氧化钛、氧化硅、碳化硅、云母、氮化硼中的至少一种。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述偶联剂为钛酸酯偶联剂、铝酸酯偶联剂、硅烷偶联剂中的至少一种，偶联剂的质量为无机填料总质量的1%~10%。

4.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述二胺为二氨基二苯醚（ODA）和/或对苯二胺（PDA），二酐为均苯四甲酸二酐，二胺和二酐的摩尔比为1：0.95~1.05。

5.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述溶剂为N,N-二甲基乙酰胺和/或N，N-二甲基甲酰胺。

6.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述脱水剂为乙酸酐、丙酸酐、乙酰氯中的至少一种，其质量为聚酰胺酸树脂质量的15%~35%；所述催化剂为吡啶、2-甲基吡啶、喹啉、异喹啉、三乙胺中的至少一种，其质量为聚酰胺酸树脂质量的1%~6%。

7.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述步骤（4）中，将纳米杂化溶液和聚酰胺酸树脂在-20~20℃下混合均匀。

8.一种根据权利要求1~7中任一项所述的制备方法制备得到的耐电晕聚酰亚胺薄膜。