[发明专利]一种振动隔离装置

说明书

本发明提供了一种振动隔离装置，包括：真空腔体(1)、真空腔体(1)内设有主基板(2)，真空腔体(1)的一内壁与主基板(2)之间设有至少一个隔振系统(3)；隔振系统(3)包括：永磁体(31)、设置有线圈(32)的线圈架(33)、主弹簧(34)、隔板(35)以及隔板弹簧(36)；永磁体(31)的一端连接主基板(2)，线圈架(33)一端固定在隔板(35)上，永磁体(31)的部分或全部置于线圈架(33)内部，线圈架(33)与永磁体(31)之间的相对位置可调；主基板(2)、主弹簧(34)、隔板(35)、隔板弹簧(36)以及真空腔体(1)依次连接。

技术领域

本发明涉及一种极紫外光刻真空振动隔离领域，具体涉及一种振动隔离装置。

背景技术

随着大规模集成电路的发展，曝光特征线宽指标对承载物镜及光学精密测控传感器的主基板提出了越来越高的位置稳定性要求。地面传来的随机振动及硅片台高速运动引起的扰动是影响主基板位置稳定性的重要因素之一。所以需要为主基板提供一个无振动污染的隔离环境，以确保物镜及测量传感器的正常工作。

波长为13.5纳米的极紫外(extreme-ultraviolet，EUV)光刻是目前人类科技所能达到的可大规模量产的最高光刻水平。EUV光刻机作为集成电路生产最高端的核心设备，其主要特点是内部为真空环境，这也给EUV光刻主基板的全频段振动隔离带来较大难度。

一般来说，基于作动方式隔振系统可分为机械弹簧隔振系统、气动式隔振系统和电磁式隔振系统。传统机械弹簧隔振系统因固有频率较高只能衰减较高频段的振动，对中低频段减振基本无效且还会放大振动。气动式隔振系统因其作动器为空气弹簧，其耗散的气体会破坏真空环境，不适合真空使用。电磁式隔振系统现在成为光刻机振动隔离的主流选择。

电磁式隔振系统使用电磁力作为振动扰动的抵消力，为了达到一定的隔振效果会产生较大的热量，在真空中使用时因缺乏对流尤其存在散热问题。而且其有效隔振频段一般在1Hz及以上(部分带前馈控制的电磁式隔振系统最高可达0.8Hz)，10Hz时的振动传递率可达3％(衰减约30dB)；即便如此，在最先进光刻机应用中依旧不能单独使用即能达到振动隔离要求，需要配合良好的隔振地基采用二级甚至多级隔振方案。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明提供的一种振动隔离装置及其调试方法，通过结合弹簧隔振原理以及电磁式隔振原理，至少用于解决真空中较大振动传递衰减、真空中热损耗等问题。

(二)技术方案

本发明提供一种振动隔离装置，包括：真空腔体1、真空腔体1内设有主基板2，真空腔体1的一内壁与主基板2之间设有至少一个隔振系统3；隔振系统3包括：永磁体31、设置有线圈32的线圈架33、主弹簧34、隔板35以及隔板弹簧36；永磁体31的一端连接主基板2，线圈架33一端固定在隔板35上，永磁体31的部分或全部置于线圈架33内部，线圈架33与永磁体31之间的相对位置可调；主基板2、主弹簧34、隔板35、隔板弹簧36以及真空腔体1依次连接。

可选地，永磁体31为空心柱体结构，主弹簧34设置于永磁体31内部且与永磁体31内壁保持一预设距离。

可选地，永磁体31为实心柱体结构，主弹簧34设置于线圈架33之外。

可选地，隔板35设置有螺纹孔，隔振系统3还包括：螺纹杆37以及电机38；螺纹杆37的尺寸与螺纹孔的尺寸对应，且能够穿过螺纹孔；隔板35、螺纹杆37、电机38以及真空腔体1依次连接。

可选地，线圈架33与永磁体31之间的相对位置可调，包括：通过隔板弹簧36调节隔板35的高度，改变线圈架33的高度，进而改变永磁体31置入线圈架33的体积。

可选地，真空腔体1上固定有至少一个的圆长杆，隔板35上设置有至少一个的通孔，圆长杆穿过通孔。