[发明专利]一种空间环境下的MEMS红外辐射面均匀性提升系统有效
| 申请号： | 201911179919.0 | 申请日： | 2019-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN111006773B | 公开（公告）日： | 2022-02-11 |
| 发明（设计）人： | 张玉国;孙红胜;张鑫;王加朋;吴柯萱;李世伟;杨旺林;宋春晖;邱超;吴红霞;孙广尉;张林军;郭靖 | 申请（专利权）人： | 北京振兴计量测试研究所 |
| 主分类号： | G01J5/52 | 分类号： | G01J5/52;B81C1/00;B81B7/02 |
| 代理公司： | 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 | 代理人： | 程虹 |
| 地址： | 100074 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 空间 环境 mems 红外 辐射 均匀 提升 系统 | ||
1.一种空间环境下的MEMS红外辐射面均匀性提升系统，其特征在于，包括热匀化导热层(1)、加热层(2)、分离式电极组(3)、芯片支撑组件(6)和绝缘层(8)，热匀化导热层(1)位于加热层(2)和MEMS红外辐射面(5)之间；
分离式电极组(3)为加热层(2)供电，使加热层(2)发热；
加热层(2)对MEMS红外辐射面(5)进行加热；
所述分离式电极组(3)位于所述MEMS红外辐射面(5)的周侧，为所述加热层(2)供电；
分离式电极组(3)由多个分离的微电极(31)构成，微电极(31)之间彼此并联；热匀化导热层(1)对MEMS红外辐射面(5)起到热匀化作用，提升MEMS红外辐射面温度的均匀性，热匀化导热层(1)为铂金属薄膜，且厚度为2μm，所述热匀化导热层(1)的水平方向的导热性能优于垂直方向的导热性能；
所述热匀化导热层(1)的面积大于所述MEMS红外辐射面(5)的面积；所述加热层(2)的面积大于所述热匀化导热层(1)的面积；
所述MEMS红外辐射面(5)设有纳米态的碳涂层；
绝缘层(8)设置在热匀化导热层(1)与MEMS红外辐射面(5)之间；
芯片支撑组件(6)包括衬底(61)、支撑架(62)和底板(63)，衬底(61)通过支撑架(62)架设在底板(63)上，所述底板(63)的面积大于衬底(61)的面积；
所述加热层(2)铺设在衬底(61)上，所述加热层(2)的面积小于所述衬底(61)的面积；
微电极(31)为矩形，多个微电极(31)采用列阵的方式排布在衬底(61)上，微电极(31)的尺寸为1.2mm×0.6mm；
所述热匀化导热层(1)为薄膜层，位于所述MEMS红外辐射面(5)的下方，并与MEMS红外辐射面(5)接触；
所述衬底(61)的上表面覆盖有绝缘介质薄膜(7)；
还包括为所述分离式电极组(3)供电的外部供电电极(4)，外部供电电极(4)一端与外部供电电源连接，另一端与所述分离式电极组(3)连接。
2.根据权利要求1所述的空间环境下的MEMS红外辐射面均匀性提升系统，其特征在于，所述微电极(31)的数量为15～30个。
3.根据权利要求1所述的空间环境下的MEMS红外辐射面均匀性提升系统，其特征在于，所述衬底(61)的材质为单晶硅、蓝宝石或氧化锆。
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