[发明专利]荧光陶瓷及其制备方法、发光装置以及投影装置

说明书

本申请涉及荧光陶瓷技术领域，具体公开了一种荧光陶瓷及其制备方法、发光装置以及投影装置，该荧光陶瓷至少包括：基质；分布于基质内的发光中心、第一散射单元以及第二散射单元；第一散射单元的折射率大于发光中心的折射率；第二散射单元的折射率小于发光中心的折射率。通过上述方式，本申请能够提高荧光陶瓷对荧光的散射性能，从而提高了光源系统中的光效利用率。

技术领域

本申请涉及荧光陶瓷领域，特别是涉及一种荧光陶瓷及其制备方法、发光装置以及投影装置。

背景技术

YAG荧光陶瓷有别于YAG的纯相陶瓷，通过在YAG中掺杂铈等镧系元素，使得微量的该元素取代部分钇的位置，从而使YAG荧光陶瓷获得发光性能，能够将入射光转换为波长更长的光。

本申请的发明人在长期的研发过程中，发现对于荧光陶瓷而言，如何提高其发光效率至关重要。荧光陶瓷中纯相陶瓷由于其自身结构原因，难以对激发光源有较高的利用率；在荧光陶瓷受激发时，其发光中心相对较少而导致其发光效率较差。

因此，亟需发明一种新型荧光陶瓷，来提升目前透明荧光陶瓷的发光效率。

发明内容

本申请提供一种荧光陶瓷及其制备方法、发光装置以及投影装置，能够提高荧光陶瓷对荧光的散射性能，从而提高了光源系统中的光效利用率。

一方面，本申请提供了一种荧光陶瓷，荧光陶瓷至少包括：基质；分布于基质内的发光中心、第一散射单元以及第二散射单元；第一散射单元的折射率大于发光中心的折射率；第二散射单元的折射率小于发光中心的折射率。

另一方面，本申请提供了一种荧光陶瓷的制备方法，制备方法包括：按照预定比例配制荧光陶瓷的基质材料、散射材料以及荧光粉颗粒，其中，散射材料至少包括造孔剂以及第一散射颗粒、第二散射颗粒；将基质材料以及散射材料在第一溶剂中混合球磨，得到第一球磨浆料；将荧光粉颗粒在第二溶剂中混合球磨，得到第二球磨浆料；分别对第一球磨浆料和第二球磨浆料进行干燥，干燥后进行研磨过筛得到第一粉体和第二粉体；混合第一粉体和第二粉体，对混合后的粉体进行压制，得到预成型件；将预成型件进行高温排胶处理，得到素坯；将素坯进行冷等静压处理；对冷等静压处理后的素坯进行高温烧结处理，抛光后，得到荧光陶瓷。

又一方面，本申请提供了一种发光装置，包括激发光源和前述的荧光陶瓷，激发光源为入射激光光源。

再一方面，本申请提供了一种投影装置，包括如前述的发光装置。

本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请在荧光陶瓷的基质中均匀分布了具有不同折射率的发光中心、第一散射单元以及第二散射单元，且第一散射单元的折射率大于发光中心的折射率、第二散射单元的折射率小于发光中心的折射率。由于粒子散射能力取决于粒子的线度和相对折射率，入射激光在各个相的界面处会发生散射，因此，可以强化荧光陶瓷对其内部的入射激光和荧光的折射和散射作用，使得激发光在陶瓷中的光程变长，进而减弱荧光在荧光陶瓷内部的横向传导，使得荧光最终从入射激光附近的小范围区域散射出去，即产生的荧光光斑较小，进而提高了荧光陶瓷对荧光的散射性能。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：

图1为本申请荧光陶瓷的一实施例的结构示意图；

图2为本申请荧光陶瓷的制备方法一实施例的流程示意图；

图3为实施例2所制备的荧光陶瓷的显微组织照片。

具体实施方式