[发明专利]量子点偏光片及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种量子点偏光片，其特征在于，所述量子点偏光片包括：

一量子点膜层；

一偏光膜层，所述偏光膜层设置在所述量子点膜层的一表面上；以及，

一纳米粒子膜层，所述纳米粒子膜层位于所述量子点膜层和所述偏光膜层之间，所述纳米粒子膜层包括粒径为5-15nm的纳米粒子。

2.根据权利要求1所述的量子点偏光片，其特征在于，所述纳米粒子膜层折射率范围为2.0-2.7。

3.根据权利要求1所述的量子点偏光片，其特征在于，所述纳米粒子材料选自淬灭处理的二六族纳米粒子及其包壳形式，或者选自氧化铜、氧化亚铜或氧化铬中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的量子点偏光片，其特征在于，所述量子点偏光片还包括一低折射率层，所述低折射率层位于所述纳米粒子膜层和所述偏光膜层之间。

5.根据权利要求1所述的量子点偏光片，其特征在于，所述量子点膜层包括量子点,其中所述量子点包括红光量子点和绿光量子点。

6.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括一显示面板和权利要求1-5中任一项所述的量子点偏光片，所述量子点偏光片贴覆于所述显示面板至少一表面上。

7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括一背光模组，所述背光模组用于向所述显示面板提供背光，所述量子点偏光片位于所述显示面板和所述背光模组之间。

8.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述背光模组的光源为蓝光光源。

9.一种量子点偏光片的制作方法，其特征在于，所述量子点偏光片的制作方法包括以下步骤：

制备量子点膜层的步骤；

制备纳米粒子膜层的步骤；

将所述量子点膜层和所述纳米粒子膜层进行贴合得到混合膜层的步骤；

制备偏光膜层的步骤；以及，

贴合步骤：将所述混合膜层与所述偏光膜层进行贴合得到量子点偏光片；

其中，在所述制备纳米粒子膜层的步骤中，所述纳米粒子膜层以以下方式制得：

S1、制备纳米粒子胶；以及，

S2、将所述纳米粒子胶在一基材上制作成膜，干燥固化后，得到纳米粒子膜层。

10.根据权利要求9所述的量子点偏光片的制作方法，其特征在于，在所述制备量子点膜层的步骤中，所述量子点膜层以以下方法制得：

a、制备量子点分散溶液；

b、制备量子点胶；以及，

c、将所述量子点胶在一基材上制作成膜，干燥固化后，得到量子点膜层。

11.根据权利要求9所述的量子点偏光片的制作方法，其特征在于，所述量子点偏光片的制作方法还包括以下步骤：

制备低折射率层的步骤；

并且，在所述贴合步骤中，将所述混合膜层、所述偏光膜层以及所述低折射率层进行贴合得到量子点偏光片。