[发明专利]电容单元、集成电容和谐振单元在审

专利信息
申请号: 201911166822.6 申请日: 2016-10-10
公开(公告)号: CN110970561A 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 罗讯;钱慧珍 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H01L49/02 分类号: H01L49/02;H01L27/13;H03H9/17
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电容 单元 集成 谐振
【权利要求书】:

1.一种用于集成电容的电容单元,所述电容单元包括:

导电腔(100),所述导电腔(100)设有上下相通的容纳空间(101);

导电芯(200),所述导电芯(200)的第一部分(210)和所述导电芯(200)的第二部分(220)通过过孔相连,所述导电芯(200)的第一部分(210)位于所述导电腔(100)的上方或下方,所述导电芯(200)的第二部分(220)位于所述导电腔(100)的容纳空间(101)中;

所述导电腔(100)和所述导电芯(200)通过氧化层或绝缘层隔离。

2.根据权利要求1所述的电容单元,其特征在于,所述导电腔(100)包括沿竖直方向延伸的多个第一导电件(110),所述多个第一导电件(110)中相邻两个第一导电件(110)通过过孔相连,所述多个第一导电件(110)中的每个第一导电件(110)设有上下相通的子容纳空间,所述导电腔(100)的容纳空间(101)包括所述多个第一导电件(110)的多个子容纳空间;

所述导电芯(200)的第二部分(220)包括与所述多个第一导电件(110)一一对应的多个第二导电件(221),所述多个第二导电件(221)中相邻两个第二导电件(221)通过过孔相连,每个第二导电件(221)位于对应的第一导电件(110)的子容纳空间中。

3.根据权利要求2所述的电容单元,其特征在于,每个第一导电件(110)的上表面和对应的第二导电件(221)的上表面位于同一平面。

4.根据权利要求2所述的电容单元,其特征在于,每个第一导电件(110)的下表面和对应的第二导电件(221)的下表面位于同一平面。

5.根据权利要求2所述的电容单元,其特征在于,每个第一导电件(110)的横截面呈四边框形结构且对应的第二导电件(221)的横截面呈四边形结构;或

每个第一导电件(110)的横截面呈圆环形结构且对应的第二导电件(221)的横截面呈圆形结构。

6.根据权利要求1至5所述的电容单元,其特征在于,所述电容单元的电容包括垂直电容和水平电容;

所述水平电容包括所述导电腔(100)和所述导电芯(200)的第二部分(220)在水平方向形成的电容;

所述垂直电容包括:所述导电芯(200)的第一部分(210)和所述导电芯(200)的第二部分(220)在竖直方向形成的电容,以及所述导电芯(200)的第一部分(210)和所述导电腔(100)在竖直方向形成的电容。

7.根据权利要求2至5中任一项所述的电容单元,其特征在于,所述电容单元的电容包括垂直电容和水平电容;

所述水平电容包括每个第一导电件(110)和对应的第二导电件(221)在水平方向上形成的电容;

所述垂直电容包括:

所述导电芯(200)的第一部分(210)和所述多个第一导电件(110)中与所述导电芯(200)的第一部分(210)相邻的第一导电件(110)在竖直方向上形成的电容,

所述导电芯(200)的第一部分(210)和所述多个第二导电件(221)中与所述导电芯(200)的第一部分(210)相邻的第二导电件(221)在竖直方向上形成的电容,

所述多个第一导电件(110)中相邻的两个第一导电件(110)在竖直方向上形成的电容,以及

所述多个第二导电件(221)中相邻的两个第二导电件(221)在竖直方向上形成的电容。

8.根据权利要求6或7所述的电容单元,其特征在于,所述水平电容的容值大于所述垂直电容的容值。

9.一种集成电容,其特征在于,所述集成电容包括多个如权利要求1至8中任一项所述的电容单元,其中,多个所述电容单元中相邻的两个电容单元的导电腔(100)相连,且所述相邻的两个电容单元的导电芯(200)相连。

10.一种谐振单元,其特征在于,所述谐振单元包括多个如权利要求9所述的集成电容以及耦合于多个所述集成电容的电感。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911166822.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top