[发明专利]离子束照射装置和存储离子束照射装置用程序的存储介质在审
申请号: | 201911140104.1 | 申请日: | 2019-11-20 |
公开(公告)号: | CN111739777A | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 竹村真哉 | 申请(专利权)人: | 日新离子机器株式会社 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 李雪春;王维玉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子束 照射 装置 存储 程序 介质 | ||
1.一种离子束照射装置,由多个模块生成满足处理条件的离子束并向被处理物照射,
所述离子束照射装置的特征在于包括:
机器学习部,生成将新的处理时的处理条件和监测值至少作为说明变量的学习算法,所述监测值表示所述新的处理的上一次处理中的至少一个所述模块的状态;以及
基本运转参数输出部,利用所述学习算法输出控制所述模块的动作的基本运转参数的初始值。
2.根据权利要求1所述的离子束照射装置,其特征在于,在向所述多个模块输入所述初始值、所述各模块基于调整所述初始值而得到的调整值进行动作的装置结构中,
还包括学习数据存储部,所述学习数据存储部存储包含多组数据集的学习数据,所述学习数据是从过去的多个处理得到的学习数据,所述数据集使各处理的处理条件、各处理的所述初始值或所述调整值的至少一方、各处理的上一次处理中的至少一个所述模块的所述监测值、以及各处理中的规定的目标变量的实际值相关联,
所述机器学习部通过利用所述学习数据的机器学习来生成所述学习算法。
3.根据权利要求2所述的离子束照射装置,其特征在于,所述目标变量是直到得到所述调整值为止的设置时间、表示是否得到了所述调整值的指标值、所述离子束的束电流量、所述离子束的束角度或所述离子束的束电流密度。
4.根据权利要求2所述的离子束照射装置,其特征在于,在所述学习数据中至少包含离子源系统模块的所述监测值。
5.根据权利要求3所述的离子束照射装置,其特征在于,在所述学习数据中至少包含离子源系统模块的所述监测值。
6.根据权利要求4所述的离子束照射装置,其特征在于,作为所述基本运转参数,使用向构成所述离子源的等离子体室供给的气体流量或向使所述等离子体室内产生磁场的源磁铁的供给电流中的至少任意一个。
7.根据权利要求5所述的离子束照射装置,其特征在于,作为所述基本运转参数,使用向构成所述离子源的等离子体室供给的气体流量或向使所述等离子体室内产生磁场的源磁铁的供给电流中的至少任意一个。
8.根据权利要求1至7中任意一项所述的离子束照射装置,其特征在于,
还包括控制装置,所述控制装置基于所述处理条件和规定的设置顺序来选择所述基本运转参数的初始值并输入所述模块,并且通过调整所述初始值来设置所述模块,
在包括所述控制装置的结构中,还包括恢复部,所述恢复部在所述控制装置未完成所述模块的设置的情况下,获取表示该情况的异常信号,
在所述恢复部获取了所述异常信号的情况下,将从所述基本运转参数输出部输出的所述基本运转参数的初始值输入所述模块。
9.根据权利要求1至7中任意一项所述的离子束照射装置,其特征在于,
还包括控制装置,所述控制装置基于所述处理条件和规定的设置顺序来选择所述基本运转参数的初始值并输入所述模块,并且通过调整所述初始值来设置所述模块,
在包括所述控制装置的结构中,还包括事先预测部,所述事先预测部在使用基于所述处理条件和所述设置顺序选择的初始值的情况下,预测所述模块的设置是否完成,
在由事先预测部预测为所述模块的设置未完成的情况下,将从所述基本运转参数输出部输出的所述基本运转参数的初始值输入所述模块。
10.一种存储有离子束照射装置用程序的存储介质,所述程序用于由多个模块生成满足处理条件的离子束并向被处理物照射的离子束照射装置,
所述存储有离子束照射装置用程序的存储介质的特征在于,所述程序使计算机发挥作为以下部分的功能:
机器学习部,生成将新的处理时的处理条件和监测值至少作为说明变量的学习算法,所述监测值表示所述新的处理的上一次处理中的至少一个所述模块的状态;以及
基本运转参数输出部,利用所述学习算法输出控制所述模块的动作的基本运转参数的初始值。
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